टाइल चिपकने वाला सेल्यूलोज इथर

1 परिचय

सीमेंट-आधारित टाइल चिपकने वाला वर्तमान में विशेष शुष्क-मिश्रित मोर्टार का सबसे बड़ा अनुप्रयोग है, जो मुख्य सीमेंटी सामग्री के रूप में सीमेंट से बना है और ग्रेडेड एग्रीगेट्स, वॉटर-रिटेनिंग एजेंट्स, अर्ली स्ट्रेंथ एजेंट, लेटेक्स पाउडर और अन्य कार्बनिक या अकार्बनिक एडिटिव्स द्वारा पूरक है। मिश्रण। आम तौर पर, इसका उपयोग केवल पानी के साथ मिलाने की आवश्यकता होती है। साधारण सीमेंट मोर्टार की तुलना में, यह सामना करने वाली सामग्री और सब्सट्रेट के बीच संबंध शक्ति में बहुत सुधार कर सकता है, और इसमें अच्छी पर्ची प्रतिरोध और उत्कृष्ट पानी और पानी प्रतिरोध है। इसका उपयोग मुख्य रूप से सजावटी सामग्रियों जैसे कि आंतरिक और बाहरी दीवार टाइलों, फर्श टाइलों, आदि को पेस्ट करने के लिए किया जाता है। इसका व्यापक रूप से आंतरिक और बाहरी दीवारों, फर्श, बाथरूम, रसोई और अन्य भवन सजावट स्थानों में उपयोग किया जाता है। यह वर्तमान में सबसे व्यापक रूप से उपयोग की जाने वाली टाइल बॉन्डिंग सामग्री है।

आमतौर पर जब हम एक टाइल चिपकने वाले के प्रदर्शन का न्याय करते हैं, तो हम न केवल इसके परिचालन प्रदर्शन और एंटी-स्लाइडिंग क्षमता पर ध्यान देते हैं, बल्कि इसकी यांत्रिक शक्ति और उद्घाटन समय पर भी ध्यान देते हैं। टाइल चिपकने में सेल्युलोज ईथर न केवल चीनी मिट्टी के बरतन चिपकने के रियोलॉजिकल गुणों को प्रभावित करता है, जैसे कि चिकनी संचालन, चिपके हुए चाकू आदि, बल्कि टाइल चिपकने के यांत्रिक गुणों पर भी एक मजबूत प्रभाव पड़ता है

2। टाइल चिपकने के शुरुआती समय पर प्रभाव

जब रबर पाउडर और सेल्यूलोज ईथर वेट मोर्टार में सह-अस्तित्व में है, तो कुछ डेटा मॉडल बताते हैं कि रबर पाउडर में सीमेंट हाइड्रेशन उत्पादों को संलग्न करने के लिए मजबूत गतिज ऊर्जा होती है, और सेल्यूलोज ईथर अंतरालीय द्रव में अधिक मौजूद होता है, जो अधिक मोर्टार चिपचिपाहट और सेटिंग समय को प्रभावित करता है। सेल्यूलोज ईथर की सतह का तनाव रबर पाउडर की तुलना में अधिक है, और मोर्टार इंटरफ़ेस पर अधिक सेल्यूलोज ईथर संवर्धन बेस सतह और सेल्यूलोज ईथर के बीच हाइड्रोजन बॉन्ड के गठन के लिए फायदेमंद होगा।

गीले मोर्टार में, मोर्टार में पानी वाष्पित हो जाता है, और सेल्यूलोज ईथर सतह पर समृद्ध होता है, और 5 मिनट के भीतर मोर्टार की सतह पर एक फिल्म का गठन किया जाएगा, जो बाद की वाष्पीकरण दर को कम कर देगा, क्योंकि अधिक पानी है। इसके मोटे मोर्टार हिस्से से हटा दिया गया, यह पतले मोर्टार परत में माइग्रेट हो जाता है, और शुरुआत में बनाई गई फिल्म को आंशिक रूप से भंग कर दिया जाता है, और पानी का प्रवास मोर्टार की सतह पर अधिक सेल्यूलोज ईथर संवर्धन लाएगा।

इसलिए, मोर्टार की सतह पर सेल्यूलोज ईथर के फिल्म गठन का मोर्टार के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव पड़ता है। 1) गठित फिल्म बहुत पतली है और इसे दो बार भंग कर दिया जाएगा, जो पानी के वाष्पीकरण को सीमित नहीं कर सकता है और ताकत को कम नहीं कर सकता है। 2) गठित फिल्म बहुत मोटी है, मोर्टार अंतरालीय तरल में सेल्यूलोज ईथर की एकाग्रता अधिक है, और चिपचिपाहट अधिक है, इसलिए टाइलों को चिपकाने पर सतह की फिल्म को तोड़ना आसान नहीं है। यह देखा जा सकता है कि सेल्यूलोज ईथर के फिल्म बनाने वाले गुणों का खुले समय पर अधिक प्रभाव पड़ता है। सेल्यूलोज ईथर (HPMC, HEMC, MC, आदि) और ईथरिफिकेशन (प्रतिस्थापन की डिग्री) की डिग्री सीधे सेल्यूलोज ईथर के फिल्म बनाने वाले गुणों और फिल्म की कठोरता और क्रूरता को प्रभावित करती है।

3। ड्राइंग की ताकत पर प्रभाव

मोर्टार के लिए उपर्युक्त लाभकारी गुणों को प्रदान करने के अलावा, सेल्यूलोज ईथर भी सीमेंट के हाइड्रेशन कैनेटीक्स में देरी करता है। यह मंदता प्रभाव मुख्य रूप से सीमेंट सिस्टम में विभिन्न खनिज चरणों पर सेल्यूलोज ईथर अणुओं के सोखने के कारण होता है, लेकिन आम तौर पर बोलते हुए, सर्वसम्मति यह है कि सेल्यूलोज ईथर अणु मुख्य रूप से सीएसएच और कैलिअम हाइड्रॉक्साइड जैसे पानी पर सोखते हैं। रासायनिक उत्पादों पर, यह शायद ही कभी क्लिंकर के मूल खनिज चरण पर adsorbed है। इसके अलावा, सेल्यूलोज ईथर छिद्र समाधान की बढ़ी हुई चिपचिपाहट के कारण छिद्र समाधान में आयनों (CA2+, SO42-,…) की गतिशीलता को कम करता है, जिससे हाइड्रेशन प्रक्रिया में और देरी होती है।

चिपचिपापन एक और महत्वपूर्ण पैरामीटर है, जो सेल्यूलोज ईथर की रासायनिक विशेषताओं का प्रतिनिधित्व करता है। जैसा कि ऊपर उल्लेख किया गया है, चिपचिपाहट मुख्य रूप से पानी की अवधारण क्षमता को प्रभावित करती है और ताजा मोर्टार की कार्य क्षमता पर भी महत्वपूर्ण प्रभाव डालती है। हालांकि, प्रायोगिक अध्ययनों में पाया गया है कि सेल्यूलोज ईथर की चिपचिपाहट का सीमेंट हाइड्रेशन कैनेटीक्स पर लगभग कोई प्रभाव नहीं पड़ता है। आणविक भार का जलयोजन पर बहुत कम प्रभाव पड़ता है, और विभिन्न आणविक भार के बीच अधिकतम अंतर केवल 10min है। इसलिए, सीमेंट हाइड्रेशन को नियंत्रित करने के लिए आणविक भार एक महत्वपूर्ण पैरामीटर नहीं है।

सेल्यूलोज ईथर की मंदता इसकी रासायनिक संरचना पर निर्भर करती है, और सामान्य प्रवृत्ति ने निष्कर्ष निकाला कि, MHEC के लिए, मिथाइलेशन की डिग्री जितनी अधिक होती है, सेल्यूलोज ईथर का कम मंद प्रभाव। इसके अलावा, हाइड्रोफिलिक प्रतिस्थापन (जैसे एचईसी के प्रतिस्थापन) का मंद प्रभाव हाइड्रोफोबिक प्रतिस्थापन (जैसे कि एमएच, एमएचईसी, एमएचपीसी के प्रतिस्थापन) की तुलना में अधिक मजबूत है। सेल्यूलोज ईथर का मंद प्रभाव मुख्य रूप से दो मापदंडों से प्रभावित होता है, प्रतिस्थापन समूहों के प्रकार और मात्रा।

हमारे व्यवस्थित प्रयोगों में यह भी पाया गया कि प्रतिस्थापन की सामग्री टाइल चिपकने की यांत्रिक शक्ति में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है। हमने टाइल चिपकने में प्रतिस्थापन के विभिन्न डिग्री के साथ एचपीएमसी के प्रदर्शन का मूल्यांकन किया, और टाइल चिपकने के यांत्रिक गुणों पर प्रभाव पर विभिन्न इलाज की स्थिति के तहत विभिन्न समूहों वाले सेल्यूलोज इथर के प्रभाव का परीक्षण किया।

परीक्षण में, हम एचपीएमसी पर विचार करते हैं, जो एक यौगिक ईथर है, इसलिए हमें दो चित्रों को एक साथ रखना होगा। एचपीएमसी के लिए, इसकी जल घुलनशीलता और प्रकाश प्रसार सुनिश्चित करने के लिए इसे एक निश्चित डिग्री अवशोषण की आवश्यकता होती है। हम प्रतिस्थापन की सामग्री को जानते हैं यह एचपीएमसी के जेल तापमान को भी निर्धारित करता है, जो एचपीएमसी के उपयोग के वातावरण को भी निर्धारित करता है। इस तरह, एचपीएमसी की समूह सामग्री जो आमतौर पर लागू होती है, वह भी एक सीमा के भीतर फंसाया जाता है। इस सीमा में, सबसे अच्छा प्रभाव प्राप्त करने के लिए मेथॉक्सी और हाइड्रॉक्सीप्रोपॉक्सी को कैसे संयोजित किया जाए, यह हमारे शोध की सामग्री है। चित्रा 2 से पता चलता है कि एक निश्चित सीमा के भीतर, मेथॉक्सिल समूहों की सामग्री में वृद्धि से पुल-आउट ताकत में नीचे की ओर प्रवृत्ति पैदा होगी, जबकि हाइड्रॉक्सीप्रोपॉक्सिल समूहों की सामग्री में वृद्धि से पुल-आउट ताकत में वृद्धि होगी । खुलने के घंटों के लिए एक समान प्रभाव है।

खुले समय की स्थिति के तहत यांत्रिक शक्ति का परिवर्तन की प्रवृत्ति सामान्य तापमान स्थितियों के तहत संगत है। उच्च मेथॉक्सिल (डीएस) सामग्री और कम हाइड्रॉक्सीप्रोपॉक्सिल (एमएस) सामग्री के साथ एचपीएमसी फिल्म की अच्छी क्रूरता है, लेकिन यह इसके विपरीत गीले मोर्टार को प्रभावित करेगा। सामग्री गीला करने वाले गुण।