外装断熱仕上げシステム (EIFS) モルタルは、建物に断熱性、耐候性、美観を与える上で重要な役割を果たします。ヒドロキシプロピル メチルセルロース (HPMC) は、その多用途性、保水性、および作業性を向上させる能力により、EIFS モルタルで一般的に使用される添加剤です。
1. EIFS 迫撃砲の紹介:
EIFS モルタルは、外壁システムの断熱および仕上げに使用される複合材料です。
通常、セメント結合剤、骨材、繊維、添加剤、水で構成されています。
EIFS モルタルは、断熱パネルを接合するためのプライマーとして、また美観と耐候性を向上させるトップコートとして使用できます。
2.ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC):
HPMC は、天然高分子セルロースに由来するセルロースエーテルです。
保水性、増粘性、加工性の向上などの特性を持ち、建築資材などに広く使用されています。
EIFS モルタルでは、HPMC がレオロジー調整剤として機能し、接着性、凝集性、耐垂れ性を向上させます。
3.配合成分:
ａ．セメントベースのバインダー:
ポルトランドセメント: 強度と接着力を提供します。
混合セメント (ポートランド石灰石セメントなど): 耐久性が向上し、二酸化炭素排出量が削減されます。
b.集計:
砂：細骨材のボリュームと質感。
軽量骨材（膨張パーライトなど）：断熱特性を向上させます。
C.繊維:
耐アルカリ性グラスファイバー: 引張強度と耐クラック性を強化します。
d.添加物:
HPMC：保水性、作業性、耐へたり性。
空気連行剤：耐凍結融解性を向上させます。
リターダー: 暑い気候での硬化時間を制御します。
ポリマー修飾剤: 柔軟性と耐久性を強化します。
e.水：水分補給と作業性を高めるために不可欠です。
4. EIFS モルタルにおける HPMC の特性:
ａ．保水性：HPMCが水分を吸収・保持することで長期の保水性を確保し、作業性を向上させます。
b.施工性：HPMCによりモルタルに滑らかさと一貫性が与えられ、施工が容易になります。
C. 垂れ防止: HPMC は、垂直面でのモルタルの垂れや落ち込みを防ぎ、均一な厚さを確保します。
d.接着性: HPMC はモルタルと基材の間の接着性を強化し、長期的な接着性と耐久性を促進します。
e.耐ひび割れ性：HPMC はモルタルの柔軟性と接着強度を向上させ、ひび割れのリスクを軽減します。
5. 混合手順:
ａ．プリウェット法：
清潔な容器内の HPMC を全混合水の約 70 ～ 80% であらかじめ湿らせます。
乾燥成分（セメント、骨材、繊維）をミキサーで完全に混合します。
希望の粘稠度に達するまで撹拌しながら、あらかじめ湿らせた HPMC 溶液を徐々に加えます。
作業性を考慮し、必要に応じて水分量を調整してください。
b.乾式混合方法:
ミキサーで HPMC を乾燥成分 (セメント、骨材、繊維) と乾式混合します。
希望の粘稠度に達するまで撹拌しながら水を徐々に加えます。
HPMC と他の成分が均一に分散するように完全に混合します。
C. 互換性テスト: 適切な相互作用と性能を確認するための HPMC およびその他の添加剤との互換性テスト。
6. 応用技術:
ａ．基板の準備: 基板が清潔で乾燥しており、汚染物質がないことを確認してください。
b.プライマー塗布:
EIFSモルタルプライマーをコテまたはスプレー装置を使用して下地に塗布します。
厚さが均一で、特に端や角の周りが適切にカバーされていることを確認してください。
濡れたモルタルに断熱ボードを埋め込み、十分な時間をかけて硬化させます。
C. トップコートの塗布:
こてまたはスプレー装置を使用して、硬化したプライマーの上にEIFSモルタルトップコートを塗布します。
均一性と美しさを実現するために注意しながら、必要に応じて表面にテクスチャーを付けたり仕上げたりします。
厳しい気象条件からトップコートを保護するために、メーカーの推奨に従ってトップコートを硬化させます。
7. 品質管理とテスト:
ａ．一貫性: 均一性を確保するために、混合および塗布プロセス全体を通じてモルタルの一貫性を監視します。
b.接着力：モルタルと下地の接着強度を評価するために接着力試験を行います。
C. 施工性：施工中のスランプ試験や観察により施工性を評価します。
d.耐久性: 凍結融解サイクルや防水などの耐久性テストを実施し、長期的な性能を評価します。
HPMC を使用して EIFS モルタルを配合すると、作業性、接着性、耐垂れ性、耐久性の点で多くの利点が得られます。 HPMC の特性を理解し、適切な混合および適用技術に従うことで、請負業者は性能基準を満たし、建物の美観と寿命を向上させる高品質の EIFS 設置を実現できます。
投稿日時: 2024 年 2 月 23 日