ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಪ್ರೊಪಿಲ್ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಅಂಶಗಳು

ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಹೆಚ್‌ಪಿಎಂಸಿಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಪ್ರೊಪಿಲ್ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್, ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು HPMC ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಪ್ರಮುಖ ನಿಯತಾಂಕವಾಗಿದೆ. ಪ್ರಸ್ತುತ, ವಿಭಿನ್ನ HPMC ತಯಾರಕರು HPMC ಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲು ವಿಭಿನ್ನ ವಿಧಾನಗಳು ಮತ್ತು ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತಾರೆ. ಮುಖ್ಯ ವಿಧಾನಗಳು ಹಾಕೆ ರೊಟೊವಿಸ್ಕೊ, ಹಾಪ್ಲರ್, ಉಬ್ಬೆಲೋಹ್ಡೆ ಮತ್ತು ಬ್ರೂಕ್‌ಫೀಲ್ಡ್, ಇತ್ಯಾದಿ.

ಒಂದೇ ಉತ್ಪನ್ನಕ್ಕೆ, ವಿಭಿನ್ನ ವಿಧಾನಗಳಿಂದ ಅಳೆಯಲಾದ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ತುಂಬಾ ವಿಭಿನ್ನವಾಗಿವೆ, ಕೆಲವು ಬಹು ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳಾಗಿವೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಹೋಲಿಸುವಾಗ, ತಾಪಮಾನ, ರೋಟರ್ ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ ಒಂದೇ ಪರೀಕ್ಷಾ ವಿಧಾನದ ನಡುವೆ ಅದನ್ನು ಕೈಗೊಳ್ಳಬೇಕು.

ಕಣದ ಗಾತ್ರಕ್ಕೆ, ಕಣವು ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾಗಿದ್ದಷ್ಟೂ, ನೀರಿನ ಧಾರಣವು ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳು ನೀರಿನೊಂದಿಗೆ ಸಂಪರ್ಕಕ್ಕೆ ಬರುತ್ತವೆ, ಮೇಲ್ಮೈ ತಕ್ಷಣವೇ ಕರಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನೀರಿನ ಅಣುಗಳು ಒಳನುಗ್ಗುವುದನ್ನು ತಡೆಯಲು ವಸ್ತುವನ್ನು ಸುತ್ತುವ ಜೆಲ್ ಅನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ, ಕೆಲವೊಮ್ಮೆ ದೀರ್ಘಕಾಲದವರೆಗೆ ಬೆರೆಸಿದರೆ ಕರಗಿ ಸಮವಾಗಿ ಹರಡಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ, ಮಣ್ಣಿನ ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೆಂಟ್ ದ್ರಾವಣ ಅಥವಾ ಅಗ್ಲೋಮರೇಟ್ ರಚನೆಯಾಗುತ್ತದೆ. ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಕರಗುವಿಕೆಯು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡಲು ಒಂದು ಅಂಶವಾಗಿದೆ. ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಪ್ರಮುಖ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಸೂಚ್ಯಂಕವೂ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯಾಗಿದೆ. ಒಣ ಗಾರೆಗೆ MC ಗೆ ಪುಡಿ, ಕಡಿಮೆ ನೀರಿನ ಅಂಶ ಮತ್ತು 63um ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ 20%~60% ಕಣ ಗಾತ್ರದ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯು ಕರಗುವಿಕೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.ಹೆಚ್‌ಪಿಎಂಸಿಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಪ್ರೊಪಿಲ್ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್. ಒರಟಾದ MC ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಹರಳಾಗಿರುವುದರಿಂದ ಮತ್ತು ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸದೆ ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಸುಲಭವಾಗಿ ಕರಗಬಹುದು, ಆದರೆ ಕರಗುವಿಕೆಯ ವೇಗವು ತುಂಬಾ ನಿಧಾನವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಇದು ಒಣ ಗಾರದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲು ಸೂಕ್ತವಲ್ಲ. ಒಣ ಗಾರದಲ್ಲಿ, MC ಅನ್ನು ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆ, ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಭರ್ತಿಸಾಮಾಗ್ರಿಗಳು ಮತ್ತು ಸಿಮೆಂಟ್‌ನಂತಹ ಸಿಮೆಂಟಿಂಗ್ ವಸ್ತುಗಳ ನಡುವೆ ಹರಡಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸಾಕಷ್ಟು ಉತ್ತಮವಾಗಿರುವ ಪುಡಿ ಮಾತ್ರ ನೀರಿನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸುವಾಗ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವುದನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಬಹುದು. MC ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಕರಗಿಸಲು ನೀರನ್ನು ಸೇರಿಸಿದಾಗ, ಅದನ್ನು ಚದುರಿಸಲು ಮತ್ತು ಕರಗಿಸಲು ತುಂಬಾ ಕಷ್ಟ. ಒರಟಾದ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ MC ವ್ಯರ್ಥವಾಗುವುದಲ್ಲದೆ, ಗಾರದ ಸ್ಥಳೀಯ ಬಲವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಅಂತಹ ಒಣ ಗಾರವನ್ನು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿ ನಿರ್ಮಿಸಿದಾಗ, ಸ್ಥಳೀಯ ಒಣ ಗಾರದ ಕ್ಯೂರಿಂಗ್ ವೇಗವು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ವಿಭಿನ್ನ ಕ್ಯೂರಿಂಗ್ ಸಮಯದಿಂದ ಬಿರುಕು ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ. ಯಾಂತ್ರಿಕ ಸಿಂಪರಣೆ ಗಾರಕ್ಕೆ, ಕಡಿಮೆ ಮಿಶ್ರಣ ಸಮಯದಿಂದಾಗಿ, ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ.

ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಹೆಚ್ಚಾದಷ್ಟೂ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಪರಿಣಾಮ ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಹೆಚ್ಚಾದಷ್ಟೂ, MC ಯ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕರಗುವಿಕೆಯ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯು ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಗಾರದ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ನಿರ್ಮಾಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ ನಕಾರಾತ್ಮಕ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಹೆಚ್ಚಾದಷ್ಟೂ, ಗಾರದ ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ಪರಿಣಾಮವು ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಅದು ಸಂಬಂಧಕ್ಕೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿರುವುದಿಲ್ಲ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಇದ್ದಷ್ಟೂ, ಆರ್ದ್ರ ಗಾರವು ಹೆಚ್ಚು ಜಿಗುಟಾಗಿರುತ್ತದೆ, ನಿರ್ಮಾಣ, ಜಿಗುಟಾದ ಸ್ಕ್ರಾಪರ್‌ನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಮತ್ತು ಮೂಲ ವಸ್ತುವಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಎರಡೂ. ಆದರೆ ಆರ್ದ್ರ ಗಾರದ ರಚನಾತ್ಮಕ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಇದು ಸಹಾಯಕವಾಗುವುದಿಲ್ಲ. ನಿರ್ಮಾಣದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಆಂಟಿ-ಸಾಗ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿಲ್ಲ. ಇದಕ್ಕೆ ವಿರುದ್ಧವಾಗಿ, ಕೆಲವು ಕಡಿಮೆ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಆದರೆ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳು ಆರ್ದ್ರ ಗಾರದ ರಚನಾತ್ಮಕ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವಲ್ಲಿ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ.

ಗಾರಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿದರೆ, ಉತ್ತಮ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ, ಉತ್ತಮ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ.

HPMC ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯು ಅದರ ನೀರಿನ ಧಾರಣದ ಮೇಲೆ ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬೀರುತ್ತದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಒಂದೇ ರೀತಿಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಮತ್ತು ವಿಭಿನ್ನ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಗಾಗಿ, ಅದೇ ಪ್ರಮಾಣದ ಸೇರ್ಪಡೆಯ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾದ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಪರಿಣಾಮವು ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ.

HPMC ಯ ನೀರಿನ ಧಾರಣವು ಬಳಕೆಯ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದೆ ಮತ್ತು ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ನೀರಿನ ಧಾರಣವು ತಾಪಮಾನದ ಏರಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ. ಆದರೆ ನಿಜವಾದ ವಸ್ತುವಿನ ಅನ್ವಯದಲ್ಲಿ, ಒಣ ಗಾರದ ಅನೇಕ ಪರಿಸರಗಳು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ (40 ಡಿಗ್ರಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು) ಬಿಸಿ ತಲಾಧಾರದಲ್ಲಿ ನಿರ್ಮಾಣದ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿರುತ್ತವೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಬೇಸಿಗೆಯ ಇನ್ಸೊಲೇಷನ್, ಬಾಹ್ಯ ಗೋಡೆಯ ಪುಟ್ಟಿ ಪ್ಲಾಸ್ಟರಿಂಗ್, ಇದು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಸಿಮೆಂಟ್‌ನ ಘನೀಕರಣ ಮತ್ತು ಒಣ ಗಾರ ಗಟ್ಟಿಯಾಗುವುದನ್ನು ವೇಗಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ನೀರಿನ ಧಾರಣ ದರದಲ್ಲಿನ ಇಳಿಕೆಯು ನಿರ್ಮಾಣಸಾಧ್ಯತೆ ಮತ್ತು ಬಿರುಕುಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರತಿರೋಧ ಎರಡೂ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ ಎಂಬ ಸ್ಪಷ್ಟ ಭಾವನೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ, ತಾಪಮಾನ ಅಂಶಗಳ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವುದು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗುತ್ತದೆ. ಮೀಥೈಲ್ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸೇರ್ಪಡೆಯು ತಾಂತ್ರಿಕ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯ ಮುಂಚೂಣಿಯಲ್ಲಿದೆ ಎಂದು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗಿದ್ದರೂ, ತಾಪಮಾನದ ಮೇಲಿನ ಅದರ ಅವಲಂಬನೆಯು ಇನ್ನೂ ಒಣ ಗಾರದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ದುರ್ಬಲಗೊಳಿಸಲು ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಮೀಥೈಲ್ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಡೋಸೇಜ್ (ಬೇಸಿಗೆ ಸೂತ್ರ) ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ, ನಿರ್ಮಾಣ ಮತ್ತು ಬಿರುಕುಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರತಿರೋಧವು ಇನ್ನೂ ಬಳಕೆಯ ಅಗತ್ಯಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ. ಎಥೆರಿಫಿಕೇಶನ್ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವಂತಹ MC ಯ ಕೆಲವು ವಿಶೇಷ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯ ಮೂಲಕ, MC ಯ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಪರಿಣಾಮವು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಕಾಯ್ದುಕೊಳ್ಳಬಹುದು, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಕಠಿಣ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು.