하이드 록시 에틸 셀룰로오스의 소수성 변형의 중요성과 방법

하이드 록시 에틸 셀룰로오스 (HEC)수용성 비 이온 셀룰로오스 에테르로, 코팅, 건축 자재, 의약품, 일일 화학 물질 및 기타 분야에 널리 사용됩니다. 그러나 HEC는 높은 수용성과 약한 소수성을 가지므로 일부 응용 시나리오에서 성능 제한으로 이어질 수 있습니다. 따라서, 소수성으로 변형 된 하이드 록시 에틸 셀룰로오스 (HMHEC)는 유변학 적 특성, 두껍게 능력, 유화 안정성 및 방수성을 향상시키기 위해왔다.

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1. 하이드 록시 에틸 셀룰로오스의 소수성 변형의 중요성
두꺼운 특성 및 유변학 적 특성 개선
소수성 변형은 특히 낮은 전단 속도에서 HEC의 두껍게하는 능력을 크게 향상시킬 수 있습니다. 그것은 더 높은 점도를 보여 주어 시스템의 핵심 및 유사성을 향상시키는 데 도움이됩니다. 이 특성은 특히 코팅, 유전 드릴링 유체, 개인 관리 제품 등의 분야에서 특히 중요하며 제품의 안정성 및 사용 효과를 향상시킬 수 있습니다.

에멀젼 안정성을 향상시킵니다
변형 된 HEC는 수용액에서 연관 구조를 형성 할 수 있기 때문에 에멀젼의 안정성을 크게 향상시키고, 오일-물 분리를 감소시키고, 유화 효과를 향상시킬 수있다. 따라서 에멀젼 코팅, 스킨 케어 제품 및 식품 유화제 분야에서는 적용 가치가 뛰어납니다.

방수 및 필름 형성 특성을 향상시킵니다
전통적인 HEC는 친수성이 높고 습도가 높은 환경이나 물에서 쉽게 용해되어 물질의 방수에 영향을 미칩니다. 소수성 변형을 통해 코팅, 접착제, 제지 및 기타 필드에 적용 할 수 있으며 방수 및 필름 형성 특성을 향상시킬 수 있습니다.

전단 박사 특성을 향상시킵니다
소수성 변형 HEC는 높은 전단 조건에서 점도를 감소시키는 동시에 낮은 전단 속도에서 높은 일관성을 유지하여 건축 성능을 향상시키고 에너지 소비를 줄일 수 있습니다. 유전 채굴 및 건축 코팅과 같은 산업에서 중요한 가치가 있습니다.

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히드 록시 에틸 셀룰로오스의 소수성 변형
HEC 소수성 변형은 일반적으로 화학적 접목 또는 물리적 변형을 통해 용해도 및 두껍게 특성을 조정하기 위해 소수성 그룹을 도입함으로써 달성된다. 일반적인 소수성 변형 방법은 다음과 같습니다.

소수성 그룹 이식
화학적 반응을 통해 HEC 분자에 알킬 (예 : 헥사 데실), 아릴 (예 : 페닐), 실록산 또는 형광 그룹을 도입하여 소수성을 향상시킵니다. 예를 들어:

이식 장쇄 알킬, 예컨대 헥사 데실 또는 OCTYL과 같은 에스테르 화 또는 에테르 화 반응을 사용하여 소수성 연관 구조를 형성한다.
실록산 변형을 통해 실리콘 그룹을 도입하여 방수 및 윤활성을 향상시킵니다.
형광화 변형을 사용하여 기상 저항 및 소수성을 개선하여 고급 코팅 또는 특수 환경 응용 분야에 적합합니다.

공중합 또는 가교 변형
가교 네트워크를 형성하기 위해 Comonomer (예 : 아크릴 레이트) 또는 가교제 (예 : 에폭시 수지)를 도입함으로써 HEC의 방수 및 두껍게 능력이 향상됩니다. 예를 들어, 중합체 에멀젼에서 소수성 변형 HEC를 사용하면 에멀젼의 안정성 및 두껍게 효과를 향상시킬 수있다.

물리적 수정
표면 흡착 또는 코팅 기술을 사용하여, 소수성 분자는 HEC 표면에 코팅되어 특정 소수성을 형성한다. 이 방법은 비교적 가벼우 며 식품 및 의약품과 같은 화학적 안정성에 대한 높은 요구 사항을 가진 응용에 적합합니다.

소수성 연관 변형
HEC 분자에 소량의 소수성 그룹을 도입함으로써, 수용액에서 연관 응집체를 형성하여, 두껍게하는 능력을 향상시킨다. 이 방법은 고성능 증점제 개발에 널리 사용되며 코팅, 유전 화학 물질 및 기타 필드에 적합합니다.

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소수성 변형하이드 록시 에틸 셀룰로오스응용 능력을 향상시키는 데 중요한 수단이며, 이는 두꺼운 능력, 유화 안정성, 방수 및 유변학 적 특성을 향상시킬 수 있습니다. 일반적인 변형 방법은 소수성 그룹 이식, 공중합 또는 가교 변형, 물리적 변형 및 소수성 연관 변형을 포함한다. 합리적인 수정 방법을 선택하면 다양한 응용 요구 사항에 따라 HEC의 성능을 최적화하여 건축 코팅, 유전 화학 물질, 개인 관리 및 의학과 같은 많은 분야에서 더 큰 역할을 할 수 있습니다.


시간 후 : 3 월 25 일