सामान्यत: वापरल्या जाणार्‍या ड्रिलिंग फ्लुइड कॉन्फिगरेशन पद्धती आणि गुणोत्तर आवश्यकता

1. चिखल सामग्रीची निवड

. 2. ओलावा सामग्री: 10% पेक्षा जास्त नाही. पल्पिंग रेट: 10 मी 3/टनपेक्षा कमी नाही. 4. पाण्याचे नुकसान: 20 मिली/मिनिटापेक्षा जास्त नाही.
(२) पाण्याची निवड: पाण्याच्या गुणवत्तेसाठी पाण्याची चाचणी घ्यावी. सामान्यत: मऊ पाणी 15 अंशांपेक्षा जास्त नसावे. जर ते जास्त असेल तर ते मऊ केले पाहिजे.

.

.

.

2. तयारी आणि वापर

(१) प्रत्येक घन चिखलात मूलभूत घटक: १. बेंटोनाइट: %% -8%, -०-80० किलो. 2. सोडा राख (एनएसीओ 3): मातीच्या खंडाच्या 3% ते 5%, 1.5 ते 4 किलो सोडा राख. 3. हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलामाइड: 0.015% ते 0.03%, 0.15 ते 0.3 किलो. 4. हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलोनिट्रिल ड्राई पावडर: 0.2% ते 0.5%, 2 ते 5 किलो हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलोनिट्रिल ड्राई पावडर.
याव्यतिरिक्त, निर्मितीच्या परिस्थितीनुसार, अँटी-स्लंपिंग एजंट, प्लगिंग एजंट आणि फ्लुइड लॉस कमी करणारे एजंट प्रति घन मीटर चिखल कमी करा. जर क्वाटरनरी फॉरमेशन कोसळणे आणि विस्तृत करणे सोपे असेल तर सुमारे 1% अँटी-कोप्लेप्स एजंट आणि सुमारे 1% पोटॅशियम ह्युमेट जोडा.
(२) तयारी प्रक्रिया: सामान्य परिस्थितीत, 1000 मीटर बोअरहोल ड्रिल करण्यासाठी सुमारे 50 मी 3 चिखल आवश्यक आहे. उदाहरण म्हणून 20 मी 3 चिखलाची तयारी घेतल्यास, “डबल पॉलिमर चिखल” ची तयारी प्रक्रिया खालीलप्रमाणे आहे:
1. 30-80 किलो सोडा राख (एनएसीओ 3) 4 मी 3 पाण्यात ठेवा आणि चांगले मिसळा, नंतर 1000-1600 किलो बेंटोनाइट घाला, चांगले मिक्स करावे आणि वापरण्यापूर्वी दोन दिवसांपेक्षा जास्त काळ भिजवा. 2. वापरण्यापूर्वी, 20 मी 3 बेस स्लरी बनविण्यासाठी पातळ पाण्यात भरलेल्या चिखलात स्वच्छ पाण्यात घाला. 3. हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलामाइड कोरड्या पावडरचे पाण्याचे विलीन करा आणि बेस स्लरीमध्ये घाला; 40-100 किलो हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलोनिट्रिल कोरड्या पावडर पाण्यात पातळ करा आणि विरघळवा आणि बेस स्लरीमध्ये घाला. 4. सर्व साहित्य जोडल्यानंतर नीट ढवळून घ्यावे

.

प्रति किलोमीटर ड्रिलिंग चिखलाचे घटक

1. चिकणमाती:
उच्च-गुणवत्तेची बेंटोनाइट निवडा आणि त्यातील तांत्रिक आवश्यकता खालीलप्रमाणे आहेत: १. कण आकार: २०० च्या वरील २. ओलावा सामग्री: १०% पेक्षा जास्त नाही. पल्पिंग रेट: १० एम//टनपेक्षा कमी नाही. पाण्याचे नुकसान: २० एमएल/मिनिटापेक्षा जास्त नाही. डोस: 3000 ～ 4000 किलो
2. सोडा राख (एनएसीओ 3): 150 किलो
3. पाण्याची निवड: पाण्याच्या गुणवत्तेसाठी पाण्याची चाचणी घ्यावी. सामान्यत: मऊ पाणी 15 अंशांपेक्षा जास्त नसावे. जर ते जास्त असेल तर ते मऊ केले पाहिजे.
4. हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलामाइड: १. हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलामाइडची निवड कोरडे पावडर, आयोनिक, आण्विक वजन million दशलक्षाहूनही कमी नसावी आणि हायड्रॉलिसिसची पदवी%०%असावी. 2. डोस: 25 किलो.
5. हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलोनिट्रिल: 1. हायड्रोलाइज्ड पॉलीक्रिलोनिट्रिलची निवड कोरड्या पावडर, आयोनिक, आण्विक वजन 100,000-200,000 आणि हायड्रॉलिसिसची डिग्री 55-65%असावी. 2. डोस: 300 किलो.
6. इतर सुटे साहित्य: 1. एसटी -1 अँटी-स्लंप एजंट: 25 किलो. 2. 801 प्लगिंग एजंट: 50 किलो. 3. पोटॅशियम ह्युमेट (केएचएम): 50 किलो. 4. एनओओएच (कॉस्टिक सोडा): 10 किलो. 5. प्लगिंगसाठी जड साहित्य (सॉ फोम, कॉटनसिड हस्क इ.): 250 किलो.

संमिश्र लो सॉलिड फेज अँटी-कोप्लेप्स चिखल

1. वैशिष्ट्ये
1. चांगली तरलता आणि रॉक पावडर वाहून नेण्याची मजबूत क्षमता. 2. साधे चिखल उपचार, सोयीस्कर देखभाल, स्थिर कामगिरी आणि लांब सेवा जीवन. . हे वेगवेगळ्या रॉक फॉर्मेशन्सच्या भिंत संरक्षण आवश्यकता पूर्ण करू शकते.
4. गरम करणे किंवा पूर्व-भरणा केल्याशिवाय तयार करणे सोपे आहे, फक्त दोन कमी-सॉलिड फेज स्लरी मिसळा आणि चांगले ढवळून घ्या. 5. या प्रकारच्या कंपाऊंड अँटी-स्लंप चिखलामध्ये केवळ अँटी-स्लंप फंक्शनच नाही तर अँटी-स्लंपचे कार्य देखील आहे.

2. संमिश्र लो-सॉलिड अँटी-स्लंप चिखलाची तयारी एक द्रव: पॉलीक्रिलामाइड (पीएएम) ─पोटॅशियम क्लोराईड (केसीएल) लो-सॉलिड अँटी-स्लंप मड 1. बेंटोनाइट 20%. 2. सोडा राख (ना 2 सीओ 3) 0.5%. 3. सोडियम कार्बॉक्साइपोटॅशियम सेल्युलोज (एनए-सीएमसी) 0.4%. 4. पॉलीक्रिलामाइड (पीएएम आण्विक वजन 12 दशलक्ष युनिट्स) 0.1%आहे. 5. पोटॅशियम क्लोराईड (केसीएल) 1%. लिक्विड बी: पोटॅशियम ह्युमेट (केएचएम) लो सॉलिड फेज अँटी-स्लंप चिखल
1. बेंटोनाइट 3%. 2. सोडा राख (ना 2 सीओ 3) 0.5%. 3. पोटॅशियम ह्युमेट (केएचएम) 2.0% ते 3.0%. 4. पॉलीक्रिलामाइड (पीएएम आण्विक वजन 12 दशलक्ष युनिट्स) 0.1%आहे. वापरताना, 1: 1 च्या व्हॉल्यूम रेशोवर तयार द्रव ए आणि लिक्विड बी मिसळा आणि नीट ढवळून घ्या.
3. संमिश्र लो सॉलिड्स अँटी-स्लंप चिखल भिंत संरक्षणाचे यंत्रणा विश्लेषण

लिक्विड ए म्हणजे पॉलीआक्रिलामाइड (पीएएम) -पोटॅशियम क्लोराईड (केसीएल) लो-सॉलिड अँटी-स्लंप चिखल आहे, जो चांगली अँटी-स्लंप कामगिरीसह उच्च-गुणवत्तेची चिखल आहे. पीएएम आणि केसीएलचा एकत्रित परिणाम जल-संवेदनशील फॉर्मेशन्सच्या हायड्रेशन विस्तारास प्रभावीपणे प्रतिबंधित करू शकतो आणि जल-संवेदनशील फॉर्मेशन्समध्ये ड्रिलिंगवर खूप चांगला संरक्षणात्मक प्रभाव पडतो. हे प्रथमच पाणी-संवेदनशील निर्मिती उघडकीस येते तेव्हा या प्रकारच्या रॉक तयार होण्याच्या हायड्रेशन विस्तारास प्रभावीपणे प्रतिबंधित करते, ज्यामुळे छिद्र भिंत कोसळण्यापासून रोखते.
लिक्विड बी म्हणजे पोटॅशियम ह्युमेट (केएचएम) लो-सॉलिड अँटी-स्लंप चिखल आहे, जो चांगल्या अँटी-स्लंप कामगिरीसह उच्च-गुणवत्तेची चिखल आहे. केएचएम हा एक उच्च-गुणवत्तेची चिखल उपचार एजंट आहे, ज्यात पाण्याचे नुकसान कमी करणे, सौम्य करणे आणि विखुरणे, छिद्र भिंत कोसळण्यापासून रोखणे आणि ड्रिलिंग टूल्समध्ये चिखल कमी करणे आणि प्रतिबंधित करणे हे कार्य आहे.
सर्व प्रथम, भोकात पोटॅशियम ह्युमेट (केएचएम) लो-सॉलिड फेज अँटी-कोप्लेप्स चिखलाच्या अभिसरण प्रक्रियेदरम्यान, छिद्रातील ड्रिल पाईपच्या हाय-स्पीड रोटेशनद्वारे, चिखलातील पोटॅशियम ह्युमेट आणि चिकणमाती केंद्रीकरण शक्तीच्या क्रियेखाली सैल आणि तुटलेल्या खडकाच्या निर्मितीमध्ये जाऊ शकते. सैल आणि तुटलेली रॉक स्ट्रॅट सिमेंटेशन आणि मजबुतीकरणाची भूमिका बजावते आणि ओलावा प्रथम ठिकाणी भोक भिंत भेदक आणि विसर्जित करण्यापासून प्रतिबंधित करते. दुसरे म्हणजे, जेथे छिद्र भिंतीमध्ये अंतर आणि औदासिन्य आहेत तेथे चिखलात चिकणमाती आणि केएचएम केन्द्रापसारक शक्तीच्या क्रियेखाली अंतर आणि उदासीनतेमध्ये भरले जातील आणि नंतर छिद्र भिंत मजबूत आणि दुरुस्ती केली जाईल. अखेरीस, पोटॅशियम ह्युमेट (केएचएम) कमी-सॉलिड फेज अँटी-कोप्लेप्स चिखल एका विशिष्ट कालावधीसाठी छिद्रात भोकात फिरतो आणि हळूहळू छिद्र भिंतीवर पातळ, कठोर, दाट आणि गुळगुळीत चिखलाची त्वचा तयार करू शकतो, ज्यामुळे तो भिंतीवरील भिंतीवरील पाण्याचे सीपेज आणि पाण्याचे धूप रोखते आणि त्याच वेळी पोराच्या भूमिकेसाठी भूमिका बजावते. गुळगुळीत चिखलाच्या त्वचेवर ड्रिलवरील ड्रॅग कमी करण्याचा परिणाम होतो, जास्त प्रतिकारांमुळे ड्रिलिंग टूलच्या कंपनेमुळे होणा the ्या छिद्रांच्या भिंतीचे यांत्रिक नुकसान रोखले जाते.
जेव्हा लिक्विड ए आणि लिक्विड बी समान चिखल प्रणालीमध्ये 1: 1 च्या व्हॉल्यूम रेशोवर मिसळले जाते, तेव्हा द्रव ए प्रथमच “स्ट्रक्चरल तुटलेल्या चिखल” रॉक निर्मितीच्या हायड्रेशन विस्तारास प्रतिबंधित करू शकतो आणि “सैल आणि तुटलेल्या” रॉक फॉर्मेशन्सच्या डायलिसिस आणि सिमेंटेशनमध्ये प्रथमच लिक्विड बीचा वापर केला जाऊ शकतो. मिश्रित द्रव बर्‍याच काळासाठी भोकात फिरत असताना, लिक्विड बी हळूहळू संपूर्ण छिद्र विभागात एक चिखलाची त्वचा तयार करेल, ज्यामुळे हळूहळू भिंतीचे रक्षण करण्याची आणि कोसळण्यापासून रोखण्याची मुख्य भूमिका आहे.

पोटॅशियम ह्युमेट + सीएमसी चिखल

1. चिखल फॉर्म्युला (1), बेंटोनाइट 5% ते 7.5%. (२), सोडा राख (ना 2 सीओ 3) मातीच्या रकमेच्या 3% ते 5%. ()) पोटॅशियम 0.15% ते 0.25% ह्युमेट करा. (4), सीएमसी 0.3% ते 0.6%.

2. चिखल कामगिरी (1), फनेल व्हिस्कोसिटी 22-24. (२), पाण्याचे नुकसान 8-12 आहे. (3), विशिष्ट गुरुत्व 1.15 ~ 1.2. (4), पीएच मूल्य 9-10.

ब्रॉड स्पेक्ट्रम संरक्षक चिखल

1. चिखल फॉर्म्युला (1), 5% ते 10% बेंटोनाइट. (२), सोडा राख (ना 2 सीओ 3) मातीच्या रकमेच्या 4% ते 6%. ()) ०. %% ते ०..6% ब्रॉड-स्पेक्ट्रम प्रोटेक्टिव्ह एजंट.

2. चिखल कामगिरी (1), फनेल व्हिस्कोसिटी 22-26. (२) पाण्याचे नुकसान 10-15 आहे. (3), विशिष्ट गुरुत्व 1.15 ~ 1.25. (4), पीएच मूल्य 9-10.

प्लगिंग एजंट चिखल

1. चिखल फॉर्म्युला (1), बेंटोनाइट 5% ते 7.5%. (२), सोडा राख (ना 2 सीओ 3) मातीच्या रकमेच्या 3% ते 5%. ()), प्लगिंग एजंट 0.3% ते 0.7%.

2. चिखल कामगिरी (1), फनेल व्हिस्कोसिटी 20-22. (२) पाण्याचे नुकसान 10-15 आहे. ()) विशिष्ट गुरुत्व 1.15-1.20 आहे. 4. पीएच मूल्य 9-10 आहे.