सामान्यतः वापरल्या जाणाऱ्या ड्रिलिंग फ्लुइड कॉन्फिगरेशन पद्धती आणि गुणोत्तर आवश्यकता

१. चिखलाच्या साहित्याची निवड

(१) चिकणमाती: उच्च-गुणवत्तेचा बेंटोनाइट वापरा आणि त्याच्या तांत्रिक आवश्यकता खालीलप्रमाणे आहेत: १. कण आकार: २०० जाळीपेक्षा जास्त. २. ओलावा: १०% पेक्षा जास्त नाही ३. पल्पिंग रेट: १० चौरस मीटर/टन पेक्षा कमी नाही. ४. पाण्याचे नुकसान: २० मिली/मिनिट पेक्षा जास्त नाही.
(२) पाण्याची निवड: पाण्याच्या गुणवत्तेसाठी पाण्याची चाचणी केली पाहिजे. साधारणपणे, मऊ पाणी १५ अंशांपेक्षा जास्त नसावे. जर ते ओलांडले तर ते मऊ केले पाहिजे.

(३) हायड्रोलायझ्ड पॉलीअ‍ॅक्रिलामाइड: हायड्रोलायझ्ड पॉलीअ‍ॅक्रिलामाइडची निवड कोरडी पावडर, अ‍ॅनिओनिक असावी, ज्याचे आण्विक वजन ५ दशलक्ष पेक्षा कमी नसावे आणि ३०% हायड्रोलायझिसची डिग्री असावी.

(४) हायड्रोलायझ्ड पॉलीअ‍ॅक्रिलोनिट्राइल: हायड्रोलायझ्ड पॉलीअ‍ॅक्रिलोनिट्राइलची निवड कोरडी पावडर, अ‍ॅनिओनिक, आण्विक वजन १००,०००-२००,००० आणि हायड्रोलायझिसची डिग्री ५५-६५% असावी.

(५) सोडा राख (Na2CO3): बेंटोनाइटची कार्यक्षमता सुधारण्यासाठी त्याचे डिकॅल्सीफाय करा (६) पोटॅशियम ह्युमेट: २०-१०० मेश असलेली काळी पावडर सर्वोत्तम आहे.

२. तयारी आणि वापर

(१) प्रत्येक घन चिखलातील मूलभूत घटक: १. बेंटोनाइट: ५%-८%, ५०-८० किलो. २. सोडा राख (NaCO3): मातीच्या आकारमानाच्या ३% ते ५%, १.५ ते ४ किलो सोडा राख. ३. हायड्रोलायझ्ड पॉलीएक्रिलामाइड: ०.०१५% ते ०.०३%, ०.१५ ते ०.३ किलो. ४. हायड्रोलायझ्ड पॉलीएक्रिलोनिट्राइल ड्राय पावडर: ०.२% ते ०.५%, २ ते ५ किलो हायड्रोलायझ्ड पॉलीएक्रिलोनिट्राइल ड्राय पावडर.
याव्यतिरिक्त, निर्मितीच्या परिस्थितीनुसार, प्रति घनमीटर चिखलात ०.५ ते ३ किलो अँटी-स्लम्पिंग एजंट, प्लगिंग एजंट आणि द्रवपदार्थ कमी करणारे एजंट घाला. जर क्वाटरनरी फॉर्मेशन कोसळणे आणि विस्तारणे सोपे असेल तर सुमारे १% अँटी-कोलॅप्स एजंट आणि सुमारे १% पोटॅशियम ह्युमेट घाला.
(२) तयारी प्रक्रिया: सामान्य परिस्थितीत, १००० मीटर लांबीचा बोअरहोल खोदण्यासाठी सुमारे ५० चौरस मीटर चिखल लागतो. २० चौरस मीटर चिखलाचे उदाहरण घेताना, "डबल पॉलिमर चिखल" तयार करण्याची प्रक्रिया खालीलप्रमाणे आहे:
१. ३०-८० किलो सोडा राख (NaCO3) ४ चौरस मीटर पाण्यात टाका आणि चांगले मिसळा, नंतर १०००-१६०० किलो बेंटोनाइट घाला, चांगले मिसळा आणि वापरण्यापूर्वी दोन दिवसांपेक्षा जास्त काळ भिजवा. २. वापरण्यापूर्वी, २० चौरस मीटर बेस स्लरी बनवण्यासाठी स्वच्छ पाण्यात भरलेला चिखल घाला. ३. ३-६ किलो हायड्रोलायझ्ड पॉलीएक्रिलामाइड ड्राय पावडर पाण्यात विरघळवा आणि बेस स्लरीमध्ये घाला; ४०-१०० किलो हायड्रोलायझ्ड पॉलीएक्रिलामाइड ड्राय पावडर पाण्यात विरघळवा आणि बेस स्लरीमध्ये घाला. ४. सर्व साहित्य टाकल्यानंतर चांगले ढवळा.

(३) कामगिरी चाचणी वापरण्यापूर्वी चिखलाचे विविध गुणधर्म तपासले पाहिजेत आणि प्रत्येक पॅरामीटर खालील मानकांची पूर्तता केली पाहिजे: घन अवस्था सामग्री: ४% पेक्षा कमी विशिष्ट गुरुत्वाकर्षण (r): १.०६ पेक्षा कमी फनेल व्हिस्कोसिटी (T): १७ ते २१ सेकंद पाण्याचे प्रमाण (B): १५ मिली/३० मिनिटांपेक्षा कमी चिखलाचा केक (K):

प्रति किलोमीटर चिखलाचे घटक

१. चिकणमाती:
उच्च-गुणवत्तेचे बेंटोनाइट निवडा आणि त्याच्या तांत्रिक आवश्यकता खालीलप्रमाणे आहेत: १. कण आकार: २०० जाळीपेक्षा जास्त २. ओलावा: १०% पेक्षा जास्त नाही ३. पल्पिंग रेट: १० मीटर ३/टन पेक्षा कमी नाही ४. पाण्याचे नुकसान: २० मिली/मिनिट पेक्षा जास्त नाही ५. डोस: ३०००~४००० किलो
२. सोडा राख (NaCO3): १५० किलो
३. पाण्याची निवड: पाण्याच्या गुणवत्तेसाठी पाण्याची चाचणी केली पाहिजे. साधारणपणे, मऊ पाणी १५ अंशांपेक्षा जास्त नसावे. जर ते ओलांडले तर ते मऊ केले पाहिजे.
४. हायड्रोलायझ्ड पॉलीअ‍ॅक्रिलामाइड: १. हायड्रोलायझ्ड पॉलीअ‍ॅक्रिलामाइडची निवड कोरडी पावडर, अ‍ॅनिओनिक, आण्विक वजन ५ दशलक्ष पेक्षा कमी नसावे आणि हायड्रोलायझिस डिग्री ३०% असावी. २. डोस: २५ किलो.
५. हायड्रोलायझ्ड पॉलीअ‍ॅक्रिलोनिट्राइल: १. हायड्रोलायझ्ड पॉलीअ‍ॅक्रिलोनिट्राइलची निवड कोरडी पावडर, अ‍ॅनिओनिक, आण्विक वजन १००,०००-२००,००० आणि हायड्रोलायझिसची डिग्री ५५-६५% असावी. २. डोस: ३०० किलो.
६. इतर सुटे साहित्य: १. एसटी-१ अँटी-स्लम्प एजंट: २५ किलो. २. ८०१ प्लगिंग एजंट: ५० किलो. ३. पोटॅशियम ह्युमेट (केएचएम): ५० किलो. ४. नाओएच (कॉस्टिक सोडा): १० किलो. ५. प्लगिंगसाठी निष्क्रिय साहित्य (सॉ फोम, कापसाचे बियांचे भुसे इ.): २५० किलो.

संमिश्र कमी घन टप्प्यातील संकुचित चिखल

१. वैशिष्ट्ये
१. चांगली तरलता आणि खडकांची पावडर वाहून नेण्याची मजबूत क्षमता. २. साधी चिखल प्रक्रिया, सोयीस्कर देखभाल, स्थिर कामगिरी आणि दीर्घ सेवा आयुष्य. ३. विस्तृत उपयुक्तता, ते केवळ सैल, तुटलेल्या आणि कोसळलेल्या थरांमध्येच नव्हे तर चिखलाने भरलेल्या तुटलेल्या खडक थरांमध्ये आणि पाण्याला संवेदनशील असलेल्या खडक थरांमध्ये देखील वापरले जाऊ शकते. ते वेगवेगळ्या खडकांच्या रचनेच्या भिंतींच्या संरक्षणाच्या आवश्यकता पूर्ण करू शकते.
४. गरम न करता किंवा आधी भिजवल्याशिवाय ते तयार करणे सोपे आहे, फक्त दोन कमी घन फेज स्लरी मिसळा आणि चांगले ढवळून घ्या. ५. या प्रकारच्या कंपाऊंड अँटी-स्लम्प मडमध्ये केवळ अँटी-स्लम्प फंक्शनच नाही तर अँटी-स्लम्पचे कार्य देखील आहे.

२. संमिश्र कमी घन अँटी-स्लम्प मड तयार करणे एक द्रव: पॉलीअ‍ॅक्रिलामाइड (PAM)─पोटॅशियम क्लोराईड (KCl) कमी घन अँटी-स्लम्प मड १. बेंटोनाइट २०%. २. सोडा राख (Na2CO3) ०.५%. ३. सोडियम कार्बोक्सीपोटॅशियम सेल्युलोज (Na-CMC) ०.४%. ४. पॉलीअ‍ॅक्रिलामाइड (PAM आण्विक वजन १२ दशलक्ष युनिट्स आहे) ०.१%. ५. पोटॅशियम क्लोराईड (KCl) १%. द्रव B: पोटॅशियम ह्युमेट (KHm) कमी घन फेज अँटी-स्लम्प मड
१. बेंटोनाइट ३%. २. सोडा राख (Na2CO3) ०.५%. ३. पोटॅशियम ह्युमेट (KHm) २.०% ते ३.०%. ४. पॉलीअ‍ॅक्रिलामाइड (PAM आण्विक वजन १२ दशलक्ष युनिट्स आहे) ०.१%. वापरताना, तयार केलेले द्रव A आणि द्रव B १:१ च्या आकारमानाच्या प्रमाणात मिसळा आणि नीट ढवळून घ्या.
३. संमिश्र कमी घन पदार्थांपासून गाळ-विरोधी चिखलाच्या भिंतीवरील संरक्षणाचे यंत्रणा विश्लेषण

लिक्विड ए म्हणजे पॉलीअ‍ॅक्रिलामाइड (PAM)-पोटॅशियम क्लोराईड (KCl) कमी घन अँटी-स्लम्प मड, जो उच्च-गुणवत्तेचा चिखल आहे ज्यामध्ये चांगली अँटी-स्लम्प कार्यक्षमता आहे. PAM आणि KCl चा एकत्रित परिणाम पाण्याच्या संवेदनशील रचनेच्या हायड्रेशन विस्तारास प्रभावीपणे रोखू शकतो आणि पाण्याच्या संवेदनशील रचनेत ड्रिलिंगवर खूप चांगला संरक्षणात्मक प्रभाव पडतो. जेव्हा पाणी-संवेदनशील रचनेच्या उघड्या पडते तेव्हा पहिल्यांदाच या प्रकारच्या खडक निर्मितीच्या हायड्रेशन विस्तारास ते प्रभावीपणे प्रतिबंधित करते, ज्यामुळे छिद्राच्या भिंतीचे कोसळणे टाळता येते.
लिक्विड बी म्हणजे पोटॅशियम ह्युमेट (KHm) कमी घन अँटी-स्लम्प मड, जो चांगला अँटी-स्लम्प कामगिरी असलेला उच्च-गुणवत्तेचा चिखल आहे. KHm हा एक उच्च-गुणवत्तेचा चिखल प्रक्रिया एजंट आहे, ज्यामध्ये पाण्याचे नुकसान कमी करणे, पातळ करणे आणि पसरवणे, छिद्राची भिंत कोसळणे रोखणे आणि ड्रिलिंग टूल्समध्ये चिखल स्केलिंग कमी करणे आणि प्रतिबंधित करणे ही कार्ये आहेत.
सर्वप्रथम, छिद्रातील पोटॅशियम ह्युमेट (KHm) कमी-घन टप्प्यातील अँटी-कोलॅप्स चिखलाच्या अभिसरण प्रक्रियेदरम्यान, छिद्रातील ड्रिल पाईपच्या उच्च-गती फिरण्याद्वारे, चिखलातील पोटॅशियम ह्युमेट आणि चिकणमाती केंद्रापसारक शक्तीच्या कृती अंतर्गत सैल आणि तुटलेल्या खडक निर्मितीमध्ये झिरपू शकतात. सैल आणि तुटलेले खडक थर सिमेंटेशन आणि मजबुतीकरणाची भूमिका बजावतात आणि प्रथम स्थानावर ओलावा छिद्राच्या भिंतीत प्रवेश करण्यापासून आणि बुडवण्यापासून रोखतात. दुसरे म्हणजे, जिथे छिद्राच्या भिंतीमध्ये अंतर आणि उदासीनता असेल, तिथे चिखलातील चिकणमाती आणि KHm केंद्रापसारक शक्तीच्या कृती अंतर्गत अंतर आणि उदासीनतेमध्ये भरले जातील आणि नंतर छिद्राची भिंत मजबूत केली जाईल आणि दुरुस्त केली जाईल. शेवटी, पोटॅशियम ह्युमेट (KHm) कमी घन अवस्थेतील अँटी-कोलॅप्स चिखल ठराविक काळासाठी छिद्रात फिरतो आणि हळूहळू छिद्राच्या भिंतीवर पातळ, कठीण, दाट आणि गुळगुळीत चिखलाची त्वचा तयार करू शकतो, ज्यामुळे छिद्राच्या भिंतीवरील पाण्याचे गळती आणि धूप रोखता येते आणि त्याच वेळी छिद्राच्या भिंतीला मजबूत करण्याची भूमिका बजावते. गुळगुळीत चिखलाच्या त्वचेचा परिणाम ड्रिलवरील ड्रॅग कमी करण्याचा असतो, जास्त प्रतिकारामुळे ड्रिलिंग टूलच्या कंपनामुळे छिद्राच्या भिंतीला होणारे यांत्रिक नुकसान टाळण्याचा असतो.
जेव्हा द्रव A आणि द्रव B एकाच चिखलाच्या प्रणालीमध्ये १:१ च्या आकारमानाच्या प्रमाणात मिसळले जातात, तेव्हा द्रव A पहिल्यांदाच "संरचनेच्या दृष्टीने तुटलेल्या चिखलाच्या" खडकाच्या निर्मितीच्या हायड्रेशन विस्ताराला रोखू शकतो आणि द्रव B पहिल्यांदाच वापरता येतो. हे "सैल आणि तुटलेल्या" खडकांच्या निर्मितीचे डायलिसिस आणि सिमेंटेशनमध्ये भूमिका बजावते. मिश्रित द्रव बराच काळ छिद्रात फिरत राहिल्याने, द्रव B हळूहळू संपूर्ण छिद्राच्या विभागात चिखलाचा थर तयार करेल, ज्यामुळे हळूहळू भिंतीचे संरक्षण आणि कोसळण्यापासून बचाव करण्याची मुख्य भूमिका बजावेल.

पोटॅशियम ह्युमेट + सीएमसी चिखल

१. चिखलाचे सूत्र (१), बेंटोनाइट ५% ते ७.५%. (२), सोडा राख (Na2CO3) मातीच्या प्रमाणाच्या ३% ते ५%. (३) पोटॅशियम ह्युमेट ०.१५% ते ०.२५%. (४), CMC ०.३% ते ०.६%.

२. चिखलाची कार्यक्षमता (१), फनेलची चिकटपणा २२-२४. (२), पाण्याचे नुकसान ८-१२. (३), विशिष्ट गुरुत्वाकर्षण १.१५ ~ १.२. (४), पीएच मूल्य ९-१०.

ब्रॉड स्पेक्ट्रम संरक्षक चिखल

१. चिखलाचे सूत्र (१), ५% ते १०% बेंटोनाइट. (२), सोडा राख (Na2CO3) मातीच्या प्रमाणाच्या ४% ते ६%. (३) ०.३% ते ०.६% ब्रॉड-स्पेक्ट्रम संरक्षक घटक.

२. चिखलाची कार्यक्षमता (१), फनेलची चिकटपणा २२-२६. (२) पाण्याचे नुकसान १०-१५ आहे. (३), विशिष्ट गुरुत्वाकर्षण १.१५ ~ १.२५. (४), पीएच मूल्य ९-१०.

प्लगिंग एजंट मड

१. चिखलाचे सूत्र (१), बेंटोनाइट ५% ते ७.५% (२), सोडा राख (Na2CO3) मातीच्या प्रमाणाच्या ३% ते ५%. (३), प्लगिंग एजंट ०.३% ते ०.७%.

२. चिखलाची कार्यक्षमता (१), फनेलची चिकटपणा २०-२२. (२) पाण्याचे नुकसान १०-१५ आहे. (३) विशिष्ट गुरुत्वाकर्षण १.१५-१.२० आहे. ४. पीएच मूल्य ९-१० आहे.


पोस्ट वेळ: जानेवारी-१६-२०२३