कोरड्या पावडर मोर्टारचे पाण्याचे धारणा

1. पाणी धारणा आवश्यक आहे

बांधकामासाठी मोर्टारची आवश्यकता असलेल्या सर्व प्रकारच्या तळांमध्ये काही प्रमाणात पाणी शोषण असते. बेस लेयर मोर्टारमध्ये पाणी शोषून घेतल्यानंतर, मोर्टारची रचना बिघडली जाईल आणि गंभीर प्रकरणांमध्ये, मोर्टारमधील सिमेंटिटियस सामग्री पूर्णपणे हायड्रेट केली जाणार नाही, परिणामी कमी सामर्थ्य, विशेषत: कडक मोर्टार दरम्यान इंटरफेस सामर्थ्य आणि बेस लेयर, ज्यामुळे मोर्टार क्रॅक होतो आणि खाली पडतो. जर प्लास्टरिंग मोर्टारमध्ये पाण्याची योग्यता योग्य कामगिरी असेल तर ते केवळ मोर्टारच्या बांधकाम कार्यक्षमतेतच प्रभावीपणे सुधारू शकत नाही, तर मोर्टारमधील पाणी बेस लेयरद्वारे शोषून घेणे आणि सिमेंटचे पुरेसे हायड्रेशन सुनिश्चित करणे कठीण करते.

2. पारंपारिक पाणी धारणा पद्धतींमध्ये समस्या

पारंपारिक उपाय म्हणजे तळावर पाणी घालणे, परंतु बेस समान रीतीने ओलावले आहे हे सुनिश्चित करणे अशक्य आहे. तळावरील सिमेंट मोर्टारचे आदर्श हायड्रेशन लक्ष्य म्हणजे सिमेंट हायड्रेशन उत्पादन बेससह पाणी शोषून घेते, तळामध्ये प्रवेश करते आणि बेससह एक प्रभावी "की कनेक्शन" बनवते, जेणेकरून आवश्यक बाँडची शक्ती प्राप्त होईल. तापमान, पाणी पिण्याची वेळ आणि पाणी पिण्याच्या एकरूपतेमध्ये फरक केल्यामुळे पायाच्या पृष्ठभागावर थेट पाणी पिण्यामुळे तळाच्या पाण्याचे शोषण गंभीर फैलावेल. बेसमध्ये पाण्याचे शोषण कमी आहे आणि तोफमध्ये पाणी शोषून घेत राहील. सिमेंट हायड्रेशन पुढे जाण्यापूर्वी, पाणी शोषले जाते, जे सिमेंट हायड्रेशन आणि मॅट्रिक्समध्ये हायड्रेशन उत्पादनांच्या प्रवेशावर परिणाम करते; बेसमध्ये पाण्याचे मोठे शोषण आहे आणि मोर्टारमधील पाणी पायथ्याकडे जाते. मध्यम स्थलांतर गती मंद आहे आणि मोर्टार आणि मॅट्रिक्स दरम्यान पाण्याची समृद्ध थर देखील तयार होतो, ज्यामुळे बॉन्डच्या सामर्थ्यावर देखील परिणाम होतो. म्हणूनच, सामान्य बेस वॉटरिंग पद्धतीचा वापर केल्याने केवळ भिंतीच्या तळाच्या उच्च पाण्याचे शोषण होण्याच्या समस्येचे निराकरण करण्यात केवळ अपयशी ठरणार नाही, परंतु तोफ आणि बेस दरम्यानच्या बंधन शक्तीवर परिणाम होईल, परिणामी पोकळ आणि क्रॅकिंग होईल.

3. पाण्याच्या धारणासाठी वेगवेगळ्या मोर्टारची आवश्यकता

विशिष्ट क्षेत्रात आणि समान तापमान आणि आर्द्रता परिस्थिती असलेल्या भागात वापरल्या जाणार्‍या मोर्टार उत्पादनांसाठी पाण्याचे धारणा दर लक्ष्य खाली प्रस्तावित केले आहे.

Water उच्च पाणी शोषण सब्सट्रेट प्लास्टरिंग मोर्टार

एअर-एंट्रेन्ड कॉंक्रिटद्वारे प्रतिनिधित्व केलेले उच्च पाण्याचे शोषण सब्सट्रेट्स, ज्यात विविध लाइटवेट विभाजन बोर्ड, ब्लॉक्स इत्यादींचा समावेश आहे, मोठ्या प्रमाणात पाण्याचे शोषण आणि दीर्घ कालावधीची वैशिष्ट्ये आहेत. या प्रकारच्या बेस लेयरसाठी वापरल्या जाणार्‍या प्लास्टरिंग मोर्टारमध्ये पाण्याचा धारणा दर 88%पेक्षा कमी नसावा.

Water पाणी शोषण सब्सट्रेट प्लास्टरिंग मोर्टार

कास्ट-इन-प्लेस कॉंक्रिटद्वारे दर्शविलेले कमी पाण्याचे शोषण सब्सट्रेट्स, बाह्य भिंतीवरील इन्सुलेशन इत्यादींसाठी पॉलिस्टीरिन बोर्डसह, तुलनेने लहान पाण्याचे शोषण आहे. अशा सब्सट्रेट्ससाठी वापरल्या जाणार्‍या प्लास्टरिंग मोर्टारमध्ये पाण्याचा धारणा दर 88%पेक्षा कमी नसावा.

Thin थिन लेयर प्लास्टरिंग मोर्टार

पातळ-लेयर प्लास्टरिंग 3 ते 8 मिमी दरम्यान प्लास्टरिंग लेयर जाडीसह प्लास्टरिंग कन्स्ट्रक्शनचा संदर्भ देते. पातळ प्लास्टरिंग लेयरमुळे या प्रकारचे प्लास्टरिंग बांधकाम ओलावा गमावणे सोपे आहे, ज्यामुळे कार्यक्षमता आणि सामर्थ्यावर परिणाम होतो. या प्रकारच्या प्लास्टरिंगसाठी वापरल्या जाणार्‍या मोर्टारसाठी, त्याचा पाणी धारणा दर 99%पेक्षा कमी नाही.

थिक लेयर प्लास्टरिंग मोर्टार

जाड थर प्लास्टरिंग प्लास्टरिंग कन्स्ट्रक्शनचा संदर्भ देते जेथे एका प्लास्टरिंग लेयरची जाडी 8 मिमी ते 20 मिमी दरम्यान असते. जाड प्लास्टरिंग लेयरमुळे या प्रकारचे प्लास्टरिंग बांधकाम पाणी गमावणे सोपे नाही, म्हणून प्लास्टरिंग मोर्टारचा पाण्याचा धारणा दर 88%पेक्षा कमी नसावा.

⑤ वॉटर-रेझिस्टंट पोटी

वॉटर-रेझिस्टंट पोटीचा वापर अल्ट्रा-पातळ प्लास्टरिंग मटेरियल म्हणून केला जातो आणि सामान्य बांधकाम जाडी 1 ते 2 मिमी दरम्यान असते. अशा सामग्रीची कार्यक्षमता आणि बॉन्ड सामर्थ्य सुनिश्चित करण्यासाठी अत्यंत उच्च पाण्याची धारणा गुणधर्म आवश्यक आहेत. पोटी मटेरियलसाठी, त्याचा पाण्याचा धारणा दर 99%पेक्षा कमी नसावा आणि बाह्य भिंतींसाठी पोटीचा पाण्याचा धारणा दर आतील भिंतींसाठी पोटीपेक्षा जास्त असावा.

4. पाण्याची देखभाल करणार्‍या साहित्याचे प्रकार

सेल्युलोज इथर

1) मिथाइल सेल्युलोज इथर (एमसी)

2) हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोज इथर (एचपीएमसी)

3) हायड्रॉक्सीथिल सेल्युलोज इथर (एचईसी)

4) कार्बोक्सीमेथिल सेल्युलोज इथर (सीएमसी)

5) हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज इथर (एचईएमसी)

स्टार्च इथर

1) सुधारित स्टार्च इथर

2) ग्वार इथर

सुधारित खनिज पाणी-निवृत्त जाडसर (मॉन्टमोरिलोनाइट, बेंटोनाइट इ.)

पाच, खालील विविध सामग्रीच्या कामगिरीवर लक्ष केंद्रित करते

1. सेल्युलोज इथर

1.1 सेल्युलोज इथरचे विहंगावलोकन

सेल्युलोज इथर ही विशिष्ट परिस्थितीत अल्कली सेल्युलोज आणि इथरिफिकेशन एजंटच्या प्रतिक्रियेद्वारे तयार केलेल्या उत्पादनांच्या मालिकेसाठी एक सामान्य संज्ञा आहे. भिन्न सेल्युलोज इथर प्राप्त केले जातात कारण अल्कली फायबरची जागा वेगवेगळ्या इथरिफिकेशन एजंट्सद्वारे केली जाते. त्याच्या पर्यायांच्या आयनीकरण गुणधर्मांनुसार, सेल्युलोज इथरला दोन श्रेणींमध्ये विभागले जाऊ शकते: कार्बोक्सीमेथिल सेल्युलोज (सीएमसी) आणि मिथाइल सेल्युलोज (एमसी) सारख्या नॉनिओनिक सारख्या आयनिक.

पर्यायांच्या प्रकारांनुसार, सेल्युलोज इथरला मिथाइल सेल्युलोज इथर (एमसी) आणि हायड्रॉक्सीथिल कार्बोक्सीमेथिल सेल्युलोज इथर (एचईसीएमसी) सारख्या मिश्रित एथरमध्ये विभागले जाऊ शकते. वेगवेगळ्या सॉल्व्हेंट्सनुसार ते विरघळते, ते दोन प्रकारांमध्ये विभागले जाऊ शकते: पाणी-विद्रव्य आणि सेंद्रिय सॉल्व्हेंट-विद्रव्य.

1.2 मुख्य सेल्युलोज वाण

कार्बोक्सीमेथिलसेल्युलोज (सीएमसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 0.4-1.4; इथरिफिकेशन एजंट, मोनोऑक्सीसेटिक acid सिड; सॉल्व्हेंट, पाणी विरघळणारे;

कार्बोक्सीमेथिल हायड्रॉक्सीथिल सेल्युलोज (सीएमएचईसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 0.7-1.0; इथरिफिकेशन एजंट, मोनोऑक्सायसेटिक acid सिड, इथिलीन ऑक्साईड; सॉल्व्हेंट, पाणी विरघळणारे;

मेथिलसेल्युलोज (एमसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 1.5-2.4; इथरिफिकेशन एजंट, मिथाइल क्लोराईड; सॉल्व्हेंट, पाणी विरघळणारे;

हायड्रोक्सीथिल सेल्युलोज (एचईसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 1.3-3.0; इथरिफिकेशन एजंट, इथिलीन ऑक्साईड; सॉल्व्हेंट, पाणी विरघळणारे;

हायड्रॉक्सीथिल मेथिलसेल्युलोज (एचईएमसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 1.5-2.0; इथरिफिकेशन एजंट, इथिलीन ऑक्साईड, मिथाइल क्लोराईड; सॉल्व्हेंट, पाणी विरघळणारे;

हायड्रोक्सीप्रॉपिल सेल्युलोज (एचपीसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 2.5-3.5; इथरिफिकेशन एजंट, प्रोपलीन ऑक्साईड; सॉल्व्हेंट, पाणी विरघळणारे;

हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोज (एचपीएमसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 1.5-2.0; इथरिफिकेशन एजंट, प्रोपलीन ऑक्साईड, मिथाइल क्लोराईड; सॉल्व्हेंट, पाणी विरघळणारे;

इथिल सेल्युलोज (ईसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 2.3-2.6; इथरिफिकेशन एजंट, मोनोक्लोरोएथेन; सॉल्व्हेंट, सेंद्रिय सॉल्व्हेंट विरघळणारे;

इथिल हायड्रॉक्सीथिल सेल्युलोज (ईएचईसी), प्रतिस्थापनाची व्यावहारिक पदवी: 2.4-2.8; इथरिफिकेशन एजंट, मोनोक्लोरोएथेन, इथिलीन ऑक्साईड; सॉल्व्हेंट, सेंद्रिय सॉल्व्हेंट विरघळणारे;

1.3 सेल्युलोजचे गुणधर्म

1.3.1 मिथाइल सेल्युलोज इथर (एमसी)

Met मेथिलसेल्युलोज थंड पाण्यात विद्रव्य आहे आणि गरम पाण्यात विरघळणे कठीण होईल. पीएच = 3-12 च्या श्रेणीमध्ये त्याचे पाण्यासारखा समाधान खूप स्थिर आहे. यात स्टार्च, ग्वार गम इ. आणि बर्‍याच सर्फॅक्टंट्सची चांगली सुसंगतता आहे. जेव्हा तापमान ग्लेशन तापमानात पोहोचते तेव्हा ग्लेशन होते.

Methy मेथिलसेल्युलोजचे पाणी धारणा त्याच्या व्यतिरिक्त प्रमाणात, चिकटपणा, कण सूक्ष्मता आणि विघटन दरावर अवलंबून असते. सामान्यत: जर व्यतिरिक्त रक्कम मोठी असेल तर सूक्ष्मता लहान आहे आणि चिकटपणा मोठा आहे, पाण्याची धारणा जास्त आहे. त्यापैकी, भरतीच्या प्रमाणात पाण्याच्या धारणावर सर्वाधिक परिणाम होतो आणि सर्वात कमी चिकटपणा पाण्याच्या धारणाच्या पातळीशी थेट प्रमाणात नाही. विघटन दर प्रामुख्याने सेल्युलोज कण आणि कण सूक्ष्मतेच्या पृष्ठभागाच्या सुधारणेच्या डिग्रीवर अवलंबून असतो. सेल्युलोज एथरपैकी, मिथाइल सेल्युलोजमध्ये पाण्याचे धारणा जास्त आहे.

- तापमानातील बदलामुळे मिथाइल सेल्युलोजच्या पाण्याच्या धारणा दरावर गंभीरपणे परिणाम होईल. सामान्यत: तापमान जितके जास्त असेल तितकेच पाणी धारणा. जर मोर्टार तापमान 40 डिग्री सेल्सिअसपेक्षा जास्त असेल तर मिथाइल सेल्युलोजचे पाणी धारणा खूप गरीब असेल, ज्यामुळे तोफच्या बांधकामावर गंभीरपणे परिणाम होईल.

④ मिथाइल सेल्युलोजचा मोर्टारच्या बांधकाम आणि आसंजन यावर महत्त्वपूर्ण परिणाम होतो. इथल्या “आसंजन” ने कामगारांच्या अ‍ॅप्लिकेटर टूल आणि वॉल सब्सट्रेट, म्हणजेच मोर्टारचा कातरणे प्रतिकार दरम्यान अनुभवलेल्या चिकट शक्तीचा संदर्भ दिला. चिकटपणा उच्च आहे, मोर्टारचा कातरण्याचा प्रतिकार मोठा आहे आणि कामगारांना वापरादरम्यान अधिक सामर्थ्य आवश्यक आहे आणि मोर्टारचे बांधकाम कामगिरी गरीब होते. मिथाइल सेल्युलोज आसंजन सेल्युलोज इथर उत्पादनांमध्ये मध्यम पातळीवर आहे.

1.3.2 हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोज इथर (एचपीएमसी)

हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोज हे एक फायबर उत्पादन आहे ज्याचे उत्पादन आणि वापर अलिकडच्या वर्षांत वेगाने वाढत आहे.

हे अल्कलायझेशननंतर परिष्कृत कापसापासून बनविलेले एक नॉन-आयनिक सेल्युलोज मिश्रित इथर आहे, प्रोपलीन ऑक्साईड आणि मिथाइल क्लोराईड इथरिफिकेशन एजंट्स म्हणून आणि प्रतिक्रियांच्या मालिकेद्वारे. प्रतिस्थानाची पदवी साधारणपणे 1.5-2.0 असते. मेथॉक्सिल सामग्री आणि हायड्रोक्सीप्रॉपिल सामग्रीच्या भिन्न गुणोत्तरांमुळे त्याचे गुणधर्म भिन्न आहेत. उच्च मेथॉक्सिल सामग्री आणि कमी हायड्रोक्सीप्रॉपिल सामग्री, कार्यप्रदर्शन मिथाइल सेल्युलोजच्या जवळ आहे; लो मेथॉक्सिल सामग्री आणि उच्च हायड्रोक्सीप्रॉपिल सामग्री, कार्यप्रदर्शन हायड्रोक्सीप्रॉपिल सेल्युलोजच्या जवळ आहे.

Hyhydhroxypropyl मेथिलसेल्युलोज थंड पाण्यात सहजपणे विद्रव्य आहे आणि गरम पाण्यात विरघळणे कठीण होईल. परंतु गरम पाण्यात त्याचे गेलेशन तापमान मिथाइल सेल्युलोजपेक्षा लक्षणीय जास्त आहे. मिथाइल सेल्युलोजच्या तुलनेत थंड पाण्यातील विद्रव्यता देखील मोठ्या प्रमाणात सुधारली आहे.

Hy हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोजची चिकटपणा त्याच्या आण्विक वजनाशी संबंधित आहे आणि आण्विक वजन जितके जास्त असेल तितके चिकटपणा जास्त. तापमान त्याच्या चिकटपणावर देखील परिणाम करते, तापमान वाढत असताना, चिकटपणा कमी होतो. परंतु मिथाइल सेल्युलोजपेक्षा तापमानामुळे त्याच्या चिकटपणाचा कमी परिणाम होतो. खोलीच्या तपमानावर साठवताना त्याचे समाधान स्थिर आहे.

Hy हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोजचे पाण्याचे धारणा त्याच्या व्यतिरिक्त रक्कम, चिकटपणा इत्यादींवर अवलंबून असते आणि त्याच व्यतिरिक्त त्याचे पाण्याचे धारणा दर मिथाइल सेल्युलोजच्या तुलनेत जास्त आहे.

Hyhydhydroxypropyl मेथिलसेल्युलोज acid सिड आणि अल्कलीसाठी स्थिर आहे आणि त्याचे पाण्यासारखा द्रावण पीएच = 2-12 च्या श्रेणीमध्ये खूप स्थिर आहे. कास्टिक सोडा आणि चुना पाण्याचा त्याच्या कार्यक्षमतेवर फारसा परिणाम झाला नाही, परंतु अल्कली त्याच्या विघटन गती वाढवू शकते आणि थोडीशी त्याची चिकटपणा वाढवू शकते. हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोज सामान्य लवणांमध्ये स्थिर आहे, परंतु जेव्हा मीठ द्रावणाची एकाग्रता जास्त असते, तेव्हा हायड्रोक्सिप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोज सोल्यूशनची चिकटपणा वाढतो.

Hyhydhroxypropil मिथाइलसेल्युलोज वॉटर-विद्रव्य पॉलिमरमध्ये मिसळले जाऊ शकते ज्यामुळे उच्च चिकटपणासह एकसमान आणि पारदर्शक द्रावण तयार होते. जसे पॉलिव्हिनिल अल्कोहोल, स्टार्च इथर, भाजीपाला गम इ.

⑥ हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोजमध्ये मेथिलसेल्युलोजपेक्षा चांगले सजीवांच्या शरीरात निर्मार्ण होणारे द्रव्य प्रतिरोध आहे आणि त्याचे द्रावण मिथाइलसेल्युलोजपेक्षा एंजाइमद्वारे कमी होण्याची शक्यता कमी आहे.

Mort मिथेलसेल्युलोजच्या तुलनेत हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोजचे आसंजन जास्त आहे.

1.3.3 हायड्रॉक्सीथिल सेल्युलोज इथर (एचईसी)

हे अल्कलीने उपचार केलेल्या परिष्कृत कापसापासून बनविले जाते आणि एसीटोनच्या उपस्थितीत इथिलीन ऑक्साईडने इथरिफिकेशन एजंट म्हणून प्रतिक्रिया दिली आहे. प्रतिस्थानाची पदवी साधारणपणे 1.5-2.0 असते. यात मजबूत हायड्रोफिलिटी आहे आणि ओलावा शोषून घेणे सोपे आहे.

Hyhydhroxythylel सेल्युलोज थंड पाण्यात विरघळणारे आहे, परंतु गरम पाण्यात विरघळणे कठीण आहे. त्याचे समाधान जेलिंगशिवाय उच्च तापमानात स्थिर आहे. तो मोर्टारमध्ये उच्च तापमानात बर्‍याच काळासाठी वापरला जाऊ शकतो, परंतु त्याची पाण्याची धारणा मिथाइल सेल्युलोजच्या तुलनेत कमी आहे.

Hyhydhroxythylel सेल्युलोज सामान्य acid सिड आणि अल्कलीसाठी स्थिर आहे. अल्कली त्याच्या विघटनास गती देऊ शकते आणि त्याची चिकटपणा किंचित वाढवू शकते. पाण्यातील त्याची विघटनशीलता मिथाइल सेल्युलोज आणि हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोजच्या तुलनेत किंचित वाईट आहे.

Hyhydhroxythyl सेल्युलोजमध्ये मोर्टारसाठी चांगली अँटी-एसएजी कामगिरी आहे, परंतु सिमेंटसाठी त्यास जास्त काळ मंदावलेला वेळ आहे.

काही घरगुती उद्योगांद्वारे उत्पादित हायड्रॉक्सीथिल सेल्युलोजची कार्यक्षमता उच्च पाण्याची सामग्री आणि उच्च राख सामग्रीमुळे मिथाइल सेल्युलोजच्या तुलनेत स्पष्टपणे कमी आहे.

१.3..4 कार्बोक्सीमेथिल सेल्युलोज इथर (सीएमसी) अल्कली उपचारानंतर नैसर्गिक तंतू (कापूस, भांग इ.) बनलेले आहे, सोडियम मोनोक्लोरोएसेटेटला इथरिफिकेशन एजंट म्हणून आणि आयनिक सेल्युलोज इथर बनविण्यासाठी प्रतिक्रिया उपचारांची मालिका चालू आहे. प्रतिस्थापनाची डिग्री सामान्यत: 0.4-1.4 असते आणि त्याच्या कामगिरीवर प्रतिस्थापनाच्या डिग्रीचा मोठ्या प्रमाणात परिणाम होतो.

Car कार्बोक्सीमेथिल सेल्युलोज अत्यंत हायग्रोस्कोपिक आहे आणि सामान्य परिस्थितीत साठवताना त्यात मोठ्या प्रमाणात पाणी असेल.

Hy हायड्रोक्सीमेथिल सेल्युलोज जलीय द्रावण जेल तयार करणार नाही आणि तापमानात वाढ झाल्याने चिकटपणा कमी होईल. जेव्हा तापमान 50 ℃ पेक्षा जास्त असेल तेव्हा चिकटपणा अपरिवर्तनीय आहे.

③ त्याच्या स्थिरतेवर पीएचद्वारे मोठ्या प्रमाणात परिणाम होतो. सामान्यत: याचा वापर जिप्सम-आधारित मोर्टारमध्ये केला जाऊ शकतो, परंतु सिमेंट-आधारित मोर्टारमध्ये नाही. जेव्हा अत्यधिक अल्कधर्मी, ते चिपचिपापन गमावते.

Met मिथाइल सेल्युलोजच्या तुलनेत त्याची पाण्याची धारणा खूपच कमी आहे. याचा जिप्सम-आधारित मोर्टारवर मंदबुद्धीचा प्रभाव आहे आणि त्याची शक्ती कमी करते. तथापि, कार्बोक्सीमेथिल सेल्युलोजची किंमत मिथाइल सेल्युलोजच्या तुलनेत लक्षणीय कमी आहे.

2. सुधारित स्टार्च इथर

सामान्यत: मोर्टारमध्ये वापरल्या जाणार्‍या स्टार्च इथर काही पॉलिसेकेराइड्सच्या नैसर्गिक पॉलिमरमधून सुधारित केले जातात. जसे बटाटा, कॉर्न, कासावा, ग्वार बीन्स इत्यादी विविध सुधारित स्टार्च इथरमध्ये सुधारित केल्या आहेत. मोर्टारमध्ये सामान्यतः वापरल्या जाणार्‍या स्टार्च इथरमध्ये हायड्रोक्सीप्रॉपिल स्टार्च इथर, हायड्रॉक्सीमेथिल स्टार्च इथर इ.

सामान्यत: बटाटे, कॉर्न आणि कसवामधून सुधारित स्टार्च इथरमध्ये सेल्युलोज इथरपेक्षा पाण्याचे धारणा लक्षणीय प्रमाणात कमी असते. त्याच्या वेगवेगळ्या डिग्री सुधारणामुळे, ते acid सिड आणि अल्कलीची भिन्न स्थिरता दर्शविते. काही उत्पादने जिप्सम-आधारित मोर्टारमध्ये वापरण्यासाठी योग्य आहेत, तर काही सिमेंट-आधारित मोर्टारमध्ये वापरली जाऊ शकत नाहीत. मोर्टारमध्ये स्टार्च इथरचा वापर मुख्यत: मोर्टारची अँटी-सॅगिंग मालमत्ता सुधारण्यासाठी, ओल्या मोर्टारचे चिकटपणा कमी करण्यासाठी आणि सुरुवातीच्या वेळेस लांबणीसाठी वापरला जातो.

स्टार्च इथर बर्‍याचदा सेल्युलोजसह एकत्र वापरले जातात, परिणामी पूरक गुणधर्म आणि दोन उत्पादनांचे फायदे. स्टार्च इथर उत्पादने सेल्युलोज इथरपेक्षा खूपच स्वस्त असल्याने, मोर्टारमध्ये स्टार्च इथरचा वापर केल्याने मोर्टार फॉर्म्युलेशनच्या किंमतीत लक्षणीय घट होईल.

3. ग्वार गम इथर

ग्वार गम इथर हा एक प्रकारचा इथरिफाइड पॉलिसेकेराइड आहे जो विशेष गुणधर्मांसह आहे, जो नैसर्गिक ग्वार बीन्समधून सुधारित केला जातो. मुख्यतः ग्वार गम आणि ry क्रेलिक फंक्शनल ग्रुप्स दरम्यान इथरिफिकेशन प्रतिक्रियेद्वारे, 2-हायड्रोक्सीप्रॉपिल फंक्शनल ग्रुप्स असलेली एक रचना तयार केली जाते, जी पॉलीगॅक्टोमॅनोझ स्ट्रक्चर आहे.

सेल्युलोज इथरशी तुलना केलेली, ग्वार गम इथर पाण्यात विरघळणे सोपे आहे. मुळात पीएचचा ग्वार गम इथरच्या कामगिरीवर कोणताही परिणाम होत नाही.

कमी व्हिस्कोसिटी आणि कमी डोसच्या अटींनुसार, ग्वार गम सेल्युलोज इथरला समान प्रमाणात बदलू शकतो आणि तत्सम पाण्याचे धारणा आहे. परंतु सुसंगतता, अँटी-एसएजी, थिक्सोट्रोपी इत्यादी स्पष्टपणे सुधारित आहेत.

उच्च व्हिस्कोसिटी आणि मोठ्या डोसच्या अटींनुसार, ग्वार गम सेल्युलोज इथरची जागा घेऊ शकत नाही आणि त्या दोघांचा मिश्रित वापर अधिक चांगली कामगिरी करेल.

Ji जिप्सम-आधारित मोर्टारमध्ये ग्वार गमच्या वापरामुळे बांधकाम दरम्यानचे आसंजन लक्षणीय प्रमाणात कमी होऊ शकते आणि बांधकाम नितळ बनवते. जिप्सम मोर्टारच्या सेटिंग वेळ आणि सामर्थ्यावर त्याचा कोणताही प्रतिकूल परिणाम नाही.

Sment जेव्हा ग्वार गम सिमेंट-आधारित चिनाई आणि प्लास्टरिंग मोर्टारवर लागू केले जाते, तेव्हा ते सेल्युलोज इथरला समान प्रमाणात बदलू शकते आणि मोर्टारला चांगले सॅगिंग प्रतिरोध, थिकोट्रोपी आणि बांधकामांच्या गुळगुळीतपणासह प्रदान करू शकते.

High उच्च चिपचिपापन आणि पाण्याच्या राखीव एजंटच्या उच्च सामग्रीसह मोर्टारमध्ये, ग्वार गम आणि सेल्युलोज इथर उत्कृष्ट परिणाम साध्य करण्यासाठी एकत्र काम करतील.

Tile ग्वार डिंकचा वापर टाइल अ‍ॅडेसिव्ह्ज, ग्राउंड सेल्फ-लेव्हलिंग एजंट्स, वॉटर-रेझिस्टंट पोटी आणि वॉल इन्सुलेशनसाठी पॉलिमर मोर्टार सारख्या उत्पादनांमध्ये देखील केला जाऊ शकतो.

4. सुधारित खनिज पाणी-निवृत्त जाडसर

चीनमध्ये बदल आणि कंपाऊंडिंगद्वारे नैसर्गिक खनिजांपासून बनविलेले वॉटर-रिटेनिंग जाडसर लागू केले गेले आहे. वॉटर-रेटिंग दाट्स तयार करण्यासाठी वापरल्या जाणार्‍या मुख्य खनिजे असे आहेत: सेपिओलाइट, बेंटोनाइट, मॉन्टमोरिलोनाइट, कॅओलिन इत्यादी. या खनिजांमध्ये कपलिंग एजंट्ससारख्या सुधारणेद्वारे पाण्याची-काळजी आणि जाड गुणधर्म असतात. मोर्टारवर लागू असलेल्या या प्रकारच्या पाण्याची-काळजी घेणारी जाडसर खालील वैशिष्ट्ये आहेत.

Control हे सामान्य मोर्टारच्या कामगिरीमध्ये लक्षणीय सुधारणा करू शकते आणि सिमेंट मोर्टारच्या खराब कार्यक्षमतेच्या समस्येचे निराकरण करू शकते, मिश्र मोर्टारची कमी शक्ती आणि पाण्याचे प्रतिकार खराब होऊ शकते.

General सामान्य औद्योगिक आणि नागरी इमारतींसाठी भिन्न सामर्थ्य पातळी असलेली मोर्टार उत्पादने तयार केली जाऊ शकतात.

- सामग्रीची किंमत कमी आहे.

Send सेंद्रीय पाण्याचे धारणा एजंट्सपेक्षा पाणी धारणा कमी आहे आणि तयार मोर्टारचे कोरडे संकोचन मूल्य तुलनेने मोठे आहे आणि एकसंधपणा कमी झाला आहे.