सेल्युलोज इथरपाण्याचे उत्कृष्ट धारणा आहे, जे ओल्या मोर्टारमधील आर्द्रता अकाली आधीच्या बाष्पीभवन होण्यापासून किंवा बेस लेयरद्वारे शोषून घेण्यापासून प्रतिबंधित करते आणि हे सुनिश्चित करते की सिमेंट पूर्णपणे हायड्रेटेड आहे, ज्यायोगे तोफच्या यांत्रिक गुणधर्मांची खात्री होते, जे विशेषतः पातळ करण्यासाठी फायदेशीर आहे -लेयर मोर्टार आणि वॉटर-शोषक बेस लेयर्स किंवा मोर्टार उच्च तापमान आणि कोरड्या परिस्थितीत बांधले. सेल्युलोज इथरचा पाण्याचा धारणा प्रभाव पारंपारिक बांधकाम प्रक्रिया बदलू शकतो आणि बांधकाम प्रगती सुधारू शकतो. उदाहरणार्थ, प्लास्टरिंग बांधकाम पूर्व-ओले न करता वॉटर-शोषक सब्सट्रेट्सवर केले जाऊ शकते.
सेल्युलोज इथरची व्हिस्कोसिटी, डोस, सभोवतालचे तापमान आणि आण्विक संरचनेचा त्याच्या पाण्याच्या धारणा कामगिरीवर मोठा प्रभाव आहे. त्याच परिस्थितीत, सेल्युलोज इथरची चिकटपणा जितका जास्त असेल तितका पाणी धारणा अधिक चांगले; डोस जितके जास्त असेल तितके पाणी धारणा. सहसा, सेल्युलोज इथरची थोडी प्रमाणात मोर्टारच्या पाण्याचे धारणा मोठ्या प्रमाणात सुधारू शकते. जेव्हा पाण्याची धारणा डिग्री वाढते तेव्हा डोस एखाद्या निश्चितपणे पोहोचतो, तेव्हा पाण्याचा धारणा दराचा कल कमी होतो; जेव्हा सभोवतालचे तापमान वाढते, तेव्हा सेल्युलोज इथरचे पाण्याचे धारणा सहसा कमी होते, परंतु काही सुधारित सेल्युलोज इथर्समध्ये उच्च तापमानाच्या परिस्थितीत पाण्याची अधिक चांगली धारणा असते; सबस्टिट्यूशन व्हेगन इथरच्या कमी अंश असलेल्या तंतूंमध्ये पाण्याची धारणा चांगली कामगिरी आहे.
सेल्युलोज इथर रेणूवरील हायड्रॉक्सिल ग्रुप आणि इथर बॉन्डवरील ऑक्सिजन अणू पाण्याच्या रेणूशी संबद्ध होतील आणि हायड्रोजन बॉन्ड तयार करतात, मुक्त पाण्यात बांधलेल्या पाण्यात बदलतात आणि त्याद्वारे पाण्याच्या धारणात चांगली भूमिका निभावतात; पाण्याचे रेणू आणि सेल्युलोज इथर आण्विक साखळी इंटरडिफ्यूजन पाण्याचे रेणूंना सेल्युलोज इथर मॅक्रोमोलिक्युलर साखळीच्या आतील भागात प्रवेश करण्यास अनुमती देते आणि मजबूत बंधनकारक शक्तींच्या अधीन आहे, ज्यामुळे पाण्याचे आणि अडकलेले पाणी तयार होते, ज्यामुळे सिमेंट स्लरीची पाण्याची धारणा सुधारते; सेल्युलोज इथरने ताजे सिमेंट स्लरी सुधारते. रिओलॉजिकल प्रॉपर्टीज, सच्छिद्र नेटवर्क रचना आणि ऑस्मोटिक प्रेशर किंवा सेल्युलोज इथरचे फिल्म-फॉर्मिंग गुणधर्म पाण्याच्या प्रसारास अडथळा आणतात.
सेल्युलोज इथरने ओले मोर्टारला उत्कृष्ट चिपचिपापनासह प्रदान केले आहे, जे ओले मोर्टार आणि बेस लेयर दरम्यान बंधन क्षमता लक्षणीय वाढवू शकते आणि मोर्टारची अँटी-सॅगिंग कार्यक्षमता सुधारू शकते. हे प्लास्टरिंग मोर्टार, वीट बाँडिंग मोर्टार आणि बाह्य भिंत इन्सुलेशन सिस्टममध्ये मोठ्या प्रमाणात वापरले जाते. सेल्युलोज इथरचा दाट परिणाम देखील ताजे मिश्रित सामग्रीची डिस्पेरिसन क्षमता आणि एकसंधपणा वाढवू शकतो, भौतिक विकृती, विभाजन आणि रक्तस्त्राव रोखू शकतो आणि फायबर कॉंक्रिट, अंडरवॉटर कॉंक्रिट आणि सेल्फ-कॉम्पॅक्टिंग कॉंक्रिटमध्ये वापरला जाऊ शकतो.
सिमेंट-आधारित सामग्रीवर सेल्युलोज इथरचा जाड परिणाम सेल्युलोज इथर सोल्यूशनच्या चिकटपणामुळे होतो. त्याच परिस्थितीत, सेल्युलोज इथरची जितकी जास्त चिकटपणा, सुधारित सिमेंट-आधारित सामग्रीची चिकटपणा जितकी जास्त असेल तितकीच, परंतु जर चिकटपणा खूप जास्त असेल तर तो सामग्रीच्या फ्लुएडिटी आणि ऑपरेशनवर परिणाम करेल (जसे की प्लास्टरिंग चाकू चिकटविणे ). सेल्फ-लेव्हलिंग मोर्टार आणि सेल्फ-कॉम्पॅक्टिंग कॉंक्रिट, ज्यास उच्च द्रवपदार्थाची आवश्यकता आहे, सेल्युलोज इथरची कमी चिकटपणा आवश्यक आहे. याव्यतिरिक्त, सेल्युलोज इथरचा जाड परिणाम सिमेंट-आधारित सामग्रीची पाण्याची मागणी वाढवेल आणि मोर्टारचे उत्पादन वाढवेल.
सेल्युलोज इथर सोल्यूशनची चिकटपणा खालील घटकांवर अवलंबून आहे: सेल्युलोज इथरचे आण्विक वजन, एकाग्रता, तापमान, कातरणे दर आणि चाचणी पद्धत. त्याच परिस्थितीत, सेल्युलोज इथरचे आण्विक वजन जितके जास्त असेल तितके द्रावणाची चिकटपणा जास्त; एकाग्रता जितकी जास्त असेल तितकीच द्रावणाची चिकटपणा. हे वापरताना, जास्त प्रमाणात डोस टाळण्यासाठी आणि मोर्टार आणि काँक्रीटच्या कामगिरीवर परिणाम करण्यासाठी काळजी घेतली पाहिजे; सेल्युलोज इथर तापमानाच्या वाढीसह इथर सोल्यूशनची चिकटपणा कमी होईल आणि एकाग्रता जितके जास्त असेल तितके तापमानाचा प्रभाव जास्त होईल; सेल्युलोज इथर सोल्यूशन सामान्यत: एक स्यूडोप्लास्टिक फ्लुइड असते ज्यात कातर पातळ होण्याच्या मालमत्तेसह, चाचणी दरम्यान कातरण्याचे प्रमाण जितके जास्त असेल तितके चिकटपणा जितका लहान असेल, म्हणूनच, बाह्य शक्तीच्या क्रियेखाली मोर्टारची एकत्रीकरण कमी होईल, जे फायदेशीर आहे मोर्टारचे बांधकाम स्क्रॅप करणे, जेणेकरून मोर्टारमध्ये एकाच वेळी चांगली कार्यक्षमता आणि एकसंध असू शकेल; कारण सेल्युलोज इथर सोल्यूशन द्रवपदार्थासाठी नॉन-न्यूटोनियन आहे, जेव्हा चिपचिपापनाची चाचणी घेण्यासाठी वापरल्या जाणार्‍या प्रायोगिक पद्धती, उपकरणे आणि उपकरणे किंवा चाचणी वातावरण भिन्न असेल, तेव्हा समान सेल्युलोज इथर सोल्यूशनचे चाचणी परिणाम बरेच भिन्न असतील.
सेल्युलोज इथर रेणू आण्विक साखळीच्या परिघावरील ताज्या सामग्रीचे काही पाण्याचे रेणू निश्चित करू शकतात, ज्यामुळे द्रावणाची चिकटपणा वाढेल. सेल्युलोज इथरच्या आण्विक साखळ्यांमध्ये त्रिमितीय नेटवर्क रचना तयार करण्यासाठी एकमेकांना जोडले जाते, जे त्याच्या जलीय समाधानास चांगले चिकटपणा देखील बनवेल.
उच्च-व्हिस्कोसिटी सेल्युलोज इथर जलीय द्रावणामध्ये उच्च थिक्सोट्रोपी आहे, जे सेल्युलोज इथरचे देखील एक प्रमुख वैशिष्ट्य आहे. च्या जलीय सोल्यूशन्समिथाइल सेल्युलोजसामान्यत: त्याच्या जेल तापमानाच्या खाली स्यूडोप्लास्टिक आणि नॉन-थिक्सोट्रॉपिक फ्लुडीिटी असते, परंतु कमी कातरणे दराने न्यूटनियन फ्लो गुणधर्म दर्शवा. सेल्युलोज इथरच्या आण्विक वजनाने किंवा एकाग्रतेसह स्यूडोप्लास्टिकिटी वाढते, पर्यायांचा प्रकार आणि प्रतिस्थापनाची डिग्री याची पर्वा न करता. म्हणूनच, समान व्हिस्कोसिटी ग्रेडचे सेल्युलोज इथर, एमसी, एचपीएमसी, एचईएमसी काहीही फरक पडत नाही, जोपर्यंत एकाग्रता आणि तापमान स्थिर ठेवत नाही तोपर्यंत नेहमीच समान रिओलॉजिकल गुणधर्म दर्शवेल. जेव्हा तापमान वाढते तेव्हा स्ट्रक्चरल जेल तयार होतात आणि अत्यंत थिक्सोट्रॉपिक प्रवाह उद्भवतात. उच्च एकाग्रता आणि कमी व्हिस्कोसिटी सेल्युलोज एथर्स जेल तापमानाच्या अगदी खाली अगदी थिक्सोट्रोपी दर्शवितात. बिल्डिंग मोर्टारच्या बांधकामात समतुल्य आणि झगमगण्याच्या समायोजनासाठी या मालमत्तेचा मोठा फायदा आहे. हे येथे स्पष्ट करणे आवश्यक आहे की सेल्युलोज इथरची चिपचिपापन जितके जास्त असेल तितकेच पाण्याचे धारणा, परंतु चिकटपणा जितका जास्त असेल तितका सेल्युलोज इथरचे सापेक्ष आण्विक वजन जास्त असेल आणि त्याच्या विद्रव्यतेत संबंधित घट, ज्याचा नकारात्मक प्रभाव पडतो मोर्टार एकाग्रता आणि बांधकाम कामगिरीवर. चिपचिपापन जितके जास्त असेल तितके मोर्टारवर दाट परिणाम अधिक स्पष्ट होईल, परंतु ते पूर्णपणे प्रमाणित नाही. काही मध्यम आणि कमी चिकटपणा, परंतु सुधारित सेल्युलोज इथरमध्ये ओले मोर्टारची स्ट्रक्चरल सामर्थ्य सुधारण्यासाठी चांगली कामगिरी आहे. चिकटपणाच्या वाढीसह, सेल्युलोज इथरचे पाणी धारणा सुधारते.
पोस्ट वेळ: एप्रिल -28-2024