एस सह किंवा त्याशिवाय एचपीएमसीमध्ये काय फरक आहे?

1. एचपीएमसी त्वरित प्रकार आणि वेगवान विखुरलेल्या प्रकारात विभागले गेले आहे.

एचपीएमसी रॅपिड फैलाव प्रकारात प्रत्यय म्हणून अक्षर आहे. उत्पादन प्रक्रियेदरम्यान ग्लायओक्सल जोडले जावे.

एचपीएमसी क्विक-डिस्परिंग प्रकारात कोणतीही अक्षरे जोडली जात नाहीत, जसे की “100000 ″ म्हणजे“ 100000 व्हिस्कोसिटी फास्ट-डिस्परिंग एचपीएमसी ”.

2. एस सह किंवा त्याशिवाय, वैशिष्ट्ये भिन्न आहेत

एचपीएमसी वेगाने विखुरलेले वेगाने थंड पाण्यात पसरते आणि पाण्यात अदृश्य होते. यावेळी द्रव मध्ये चिकटपणा नाही कारण एचपीएमसी केवळ पाण्यात विखुरलेला आहे आणि खरोखर विरघळला जात नाही. सुमारे दोन मिनिटांनंतर, द्रवाची चिकटपणा हळूहळू वाढते, ज्यामुळे पारदर्शक चिकट द्रव तयार होतो. जाड कोलोइड.

इन्स्टंट एचपीएमसी सुमारे 70 डिग्री सेल्सिअस तापमानात गरम पाण्यात त्वरीत विखुरला जाऊ शकतो. जेव्हा तापमान विशिष्ट तापमानात कमी होते, तेव्हा पारदर्शक व्हिस्कस कोलोइड तयार होईपर्यंत चिकटपणा हळूहळू दिसून येतो.

3. एस सह किंवा त्याशिवाय, हेतू भिन्न आहे

इन्स्टंट एचपीएमसी केवळ पुट्टी पावडर आणि मोर्टारमध्ये वापरला जाऊ शकतो. द्रव गोंद, पेंट्स आणि साफसफाईच्या पुरवठ्यात, गोंधळ उद्भवू शकतो आणि निरुपयोगी होऊ शकतो.

एचपीएमसीमध्ये वेगाने विखुरलेल्या अनुप्रयोगांची विस्तृत श्रेणी आहे. हे पुट्टी पावडर, मोर्टार, लिक्विड ग्लू, पेंट आणि कोणत्याही contraindication न करता साफसफाईच्या पुरवठ्यासाठी वापरले जाऊ शकते.

विघटन पद्धत

1. आवश्यक प्रमाणात गरम पाण्याचे घ्या, ते कंटेनरमध्ये ठेवा आणि ते 80 ℃ च्या वर गरम करा, नंतर हळूहळू हे उत्पादन हळू ढवळत घाला. सेल्युलोज प्रथम पाण्याच्या पृष्ठभागावर तरंगतो, परंतु हळूहळू एकसमान स्लरी तयार करण्यासाठी पसरतो. ढवळत असताना द्रावण थंड करा.

२. किंवा गरम पाण्याचे १/3 किंवा २/3 उष्णता ° 85 डिग्री सेल्सिअस तापमानात गरम पाण्याची स्लरी मिळविण्यासाठी सेल्युलोज घाला, नंतर उर्वरित थंड पाण्याचे प्रमाण घाला, सतत ढवळून घ्या आणि परिणामी मिश्रण थंड करा.

. आवश्यक चिकटपणा तयार करण्यासाठी पाण्याच्या संपर्कात असताना हे द्रुतगतीने विरघळते.

4. खोलीच्या तपमानावर हळूहळू आणि समान रीतीने सेल्युलोज जोडा, स्पष्ट समाधान तयार होईपर्यंत सतत ढवळत रहा.

हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोजच्या पाण्याच्या धारणावर कोणते घटक परिणाम करतात?

हायड्रोक्सीप्रॉपिल मेथिलसेल्युलोज एचपीएमसी उत्पादनांच्या पाण्याचे धारणा स्वतःच खालील घटकांमुळे प्रभावित होते:

1. सेल्युलोज इथर एचपीएमसीची एकरूपता

एकसमान प्रतिक्रिया दर्शविलेल्या एचपीएमसी मेथॉक्सी आणि हायड्रोक्सीप्रॉपोक्सी गट समान रीतीने वितरित केले जातात आणि पाण्याचे उच्च धारणा असते.

2. सेल्युलोज इथर एचपीएमसी थर्मल जेल तापमान

थर्मल कंडक्टिव्ह जेलचे तापमान जितके जास्त असेल तितके पाणी धारणा दर जास्त असेल; याउलट, पाण्याचा धारणा दर कमी.

3. सेल्युलोज इथर एचपीएमसीची चिकटपणा

जेव्हा एचपीएमसीची चिकटपणा वाढतो, तेव्हा पाण्याचा धारणा दर देखील वाढतो; जेव्हा चिकटपणा एका विशिष्ट पातळीवर पोहोचतो, तेव्हा पाण्याचे धारणा दरात वाढ सौम्य होते.

सेल्युलोज इथर एचपीएमसी व्यतिरिक्त रक्कम

सेल्युलोज इथर एचपीएमसीचे प्रमाण जितके जास्त जोडले जाईल तितकेच पाण्याचे धारणा दर आणि पाण्याचा धारणा अधिक चांगला.

0.25-0.6%च्या श्रेणीत, अतिरिक्त रक्कम वाढल्यामुळे पाण्याचे धारणा दर वेगाने वाढतो; जेव्हा व्यतिरिक्त रक्कम आणखी वाढते तेव्हा पाण्याच्या धारणा दराची वाढ कमी होते.