HPMC को चिनियाँ नाम हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज हो। यो गैर-आयनिक हो र प्रायः सुख्खा-मिश्रित मोर्टारमा पानी-रिटेनिङ एजेन्टको रूपमा प्रयोग गरिन्छ। यो मोर्टारमा सबैभन्दा बढी प्रयोग हुने पानी-रिटेनिङ सामग्री हो।
HPMC को उत्पादन प्रक्रिया मुख्यतया कपास फाइबर (घरेलु) को क्षारीकरण र ईथरिफिकेशन द्वारा उत्पादित पोलिसेकराइड-आधारित ईथर उत्पादन हो। यसको कुनै चार्ज हुँदैन, जेलिङ सामग्रीमा चार्ज गरिएका आयनहरूसँग प्रतिक्रिया गर्दैन, र स्थिर प्रदर्शन छ। मूल्य पनि अन्य प्रकारका सेल्युलोज ईथरहरू भन्दा कम छ, त्यसैले यो ड्राई-मिश्रित मोर्टारमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ।
हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोजको कार्य: यसले ताजा मिश्रित मोर्टारलाई निश्चित भिजेको चिपचिपाहट हुन र पृथकीकरण रोक्नको लागि गाढा बनाउन सक्छ। (गाढापन) पानी अवधारण पनि सबैभन्दा महत्त्वपूर्ण विशेषता हो, जसले मोर्टारमा मुक्त पानीको मात्रा कायम राख्न मद्दत गर्दछ, जसले गर्दा मोर्टार निर्माण भएपछि, सिमेन्टियस सामग्रीलाई हाइड्रेट गर्न बढी समय मिल्छ। (पानी अवधारण) यसमा हावा-प्रवेश गर्ने गुणहरू छन्, जसले मोर्टारको निर्माण सुधार गर्न एकसमान र मसिनो हावा बुलबुलेहरू परिचय गराउन सक्छ।
हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज ईथरको चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, पानी अवधारण प्रदर्शन त्यति नै राम्रो हुन्छ। चिपचिपापन HPMC प्रदर्शनको एक महत्त्वपूर्ण प्यारामिटर हो। हाल, विभिन्न HPMC निर्माताहरूले HPMC को चिपचिपापन मापन गर्न विभिन्न विधिहरू र उपकरणहरू प्रयोग गर्छन्। मुख्य विधिहरू HaakeRotovisko, Hoppler, Ubbelohde र Brookfield हुन्।
एउटै उत्पादनको लागि, विभिन्न विधिहरूद्वारा मापन गरिएको चिपचिपापन परिणामहरू धेरै फरक हुन्छन्, र केहीमा दोब्बर भिन्नताहरू पनि हुन्छन्। त्यसकारण, चिपचिपापन तुलना गर्दा, यो तापक्रम, रोटर, आदि सहित एउटै परीक्षण विधिहरू बीच गरिनुपर्छ। कण आकारको सन्दर्भमा, कण जति राम्रो हुन्छ, पानी अवधारण त्यति नै राम्रो हुन्छ। सेल्युलोज ईथरका ठूला कणहरू पानीको सम्पर्कमा आएपछि, सतह तुरुन्तै पग्लन्छ र पानीका अणुहरूलाई घुसपैठ गर्नबाट रोक्नको लागि सामग्रीलाई बेर्नको लागि जेल बनाउँछ। कहिलेकाहीँ यसलाई लामो समयसम्म चलाएर पनि समान रूपमा फैलाउन र विघटन गर्न सकिँदैन, बादल लागेको फ्लोकुलेन्ट घोल वा समूह बनाउँछ। यसले सेल्युलोज ईथरको पानी अवधारणलाई धेरै असर गर्छ, र घुलनशीलता सेल्युलोज ईथर छनौट गर्ने कारकहरू मध्ये एक हो।
मिथाइल सेल्युलोज ईथरको सूक्ष्मता पनि एक महत्त्वपूर्ण कार्यसम्पादन सूचकांक हो। सुख्खा पाउडर मोर्टारको लागि प्रयोग गरिने MC पाउडर हुनुपर्छ, कम पानीको मात्रा भएको हुनुपर्छ, र सूक्ष्मताको लागि कण आकारको २०% ~ ६०% ६३um भन्दा कम हुनु आवश्यक छ। सूक्ष्मताले हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज ईथरको घुलनशीलतालाई असर गर्छ। मोटो MC सामान्यतया दानेदार हुन्छ, र यसलाई पानीमा जम्मा नगरी घुलनशीलता गर्न सजिलो हुन्छ, तर विघटन दर धेरै ढिलो हुन्छ, त्यसैले यो सुख्खा पाउडर मोर्टारमा प्रयोगको लागि उपयुक्त छैन।
सुख्खा पाउडर मोर्टारमा, MC लाई एग्रीगेट, फाइन फिलर र सिमेन्ट जस्ता सिमेन्टिङ सामग्रीहरूमा छरिन्छ, र पानीमा मिसाउँदा पर्याप्त मात्रामा भएको पाउडरले मात्र मिथाइल सेल्युलोज ईथर एग्लोमेरेसनबाट बच्न सक्छ। जब MC लाई पानीमा मिसाएर एग्लोमेरेटहरू पगालिन्छ, तब यसलाई छर्नु र पगाल्न धेरै गाह्रो हुन्छ। MC को मोटो सूक्ष्मता केवल बेकार मात्र होइन, तर मोर्टारको स्थानीय शक्तिलाई पनि कम गर्छ। जब यस्तो सुख्खा पाउडर मोर्टार ठूलो क्षेत्रमा लागू गरिन्छ, स्थानीय सुख्खा पाउडर मोर्टारको उपचार गति उल्लेखनीय रूपमा कम हुनेछ, र फरक उपचार समयका कारण दरारहरू देखा पर्नेछन्। मेकानिकल निर्माणको साथ स्प्रे गरिएको मोर्टारको लागि, छोटो मिश्रण समयको कारणले गर्दा सूक्ष्मताको आवश्यकता बढी हुन्छ। सामान्यतया, चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, पानी अवधारण प्रभाव त्यति नै राम्रो हुन्छ। यद्यपि, MC को चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ र आणविक भार जति उच्च हुन्छ, यसको घुलनशीलतामा भएको समान कमीले मोर्टारको शक्ति र निर्माण कार्यसम्पादनमा नकारात्मक प्रभाव पार्नेछ।
चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, मोर्टारमा बाक्लो हुने प्रभाव त्यति नै स्पष्ट हुन्छ, तर यो प्रत्यक्ष रूपमा समानुपातिक हुँदैन। चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, भिजेको मोर्टार त्यति नै चिपचिपापन हुन्छ, अर्थात् निर्माणको क्रममा, यो स्क्र्यापरमा टाँसिएको र सब्सट्रेटमा उच्च आसंजनको रूपमा प्रकट हुन्छ। तर भिजेको मोर्टारको संरचनात्मक शक्ति बढाउनु उपयोगी हुँदैन। अर्थात्, निर्माणको क्रममा, एन्टी-स्याग प्रदर्शन स्पष्ट हुँदैन। यसको विपरित, केही मध्यम र कम चिपचिपापन तर परिमार्जित मिथाइल सेलुलोज ईथरहरूले भिजेको मोर्टारको संरचनात्मक शक्ति सुधार गर्न उत्कृष्ट प्रदर्शन गर्छन्।
HPMC को पानी अवधारण पनि प्रयोग गरिएको तापक्रमसँग सम्बन्धित छ, र मिथाइल सेल्युलोज ईथरको पानी अवधारण तापक्रम बढ्दै जाँदा घट्छ। यद्यपि, वास्तविक सामग्री प्रयोगहरूमा, धेरै वातावरणहरूमा, जस्तै गर्मीमा घाममुनि बाहिरी भित्ता पुट्टी प्लास्टरिङ, ड्राई पाउडर मोर्टार प्रायः उच्च तापक्रममा (४० डिग्री भन्दा बढी) तातो सब्सट्रेटहरूमा ड्राई पाउडर मोर्टार लागू गरिन्छ, जसले प्रायः सिमेन्टको उपचार र ड्राई पाउडर मोर्टारको कडापनलाई गति दिन्छ। पानी अवधारण दरमा गिरावटले स्पष्ट अनुभूति निम्त्याउँछ कि कार्यशीलता र दरार प्रतिरोध दुवै प्रभावित हुन्छ, र यो अवस्थामा तापमान कारकहरूको प्रभाव कम गर्न विशेष गरी महत्त्वपूर्ण छ।
यस सन्दर्भमा, मिथाइल हाइड्रोक्साइथाइल सेलुलोज ईथर additives हाल प्राविधिक विकासको अग्रपंक्तिमा मानिन्छ। यद्यपि मिथाइल हाइड्रोक्साइथाइल सेलुलोजको मात्रा बढाइएको छ (ग्रीष्मकालीन सूत्र), कार्यशीलता र दरार प्रतिरोध अझै पनि प्रयोगको आवश्यकताहरू पूरा गर्न सक्दैन। MC मा केही विशेष उपचार मार्फत, जस्तै इथरिफिकेशनको डिग्री बढाउने, आदि, पानी अवधारण प्रभावलाई उच्च तापक्रममा कायम राख्न सकिन्छ, ताकि यसले कठोर परिस्थितिहरूमा राम्रो प्रदर्शन प्रदान गर्न सकोस्।
HPMC को मात्रा धेरै बढी हुनुहुँदैन, अन्यथा यसले मोर्टारको पानीको माग बढाउनेछ, यो ट्रोवेलमा टाँसिनेछ, र सेटिङ समय धेरै लामो हुनेछ, जसले निर्माण क्षमतालाई असर गर्नेछ। विभिन्न मोर्टार उत्पादनहरूले फरक-फरक चिपचिपापन भएका HPMC प्रयोग गर्छन्, र उच्च-चिपचिपापन HPMC आकस्मिक रूपमा प्रयोग गर्दैनन्। त्यसकारण, हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज उत्पादनहरू राम्रो भए तापनि, तिनीहरूलाई राम्रोसँग प्रयोग गर्दा प्रशंसा गरिन्छ। सही HPMC छनौट गर्नु उद्यम प्रयोगशाला कर्मचारीहरूको प्राथमिक जिम्मेवारी हो। हाल, धेरै बेइमान डिलरहरूले HPMC कम्पाउन्ड गरिरहेका छन्, र गुणस्तर एकदमै कमजोर छ। निश्चित सेल्युलोज चयन गर्दा, प्रयोगशालाले मोर्टार उत्पादनको स्थिरता सुनिश्चित गर्न प्रयोगमा राम्रो काम गर्नुपर्छ, र सस्तोको लागि लोभी नहुनुहोस् र अनावश्यक नोक्सान नगर्नुहोस्।
पोस्ट समय: मे-०४-२०२३