१. मिथाइलसेलुलोज (MC)
परिष्कृत कपासलाई क्षारले प्रशोधन गरेपछि, सेल्युलोज ईथर ईथरिफिकेशन एजेन्टको रूपमा मिथेन क्लोराइडसँग प्रतिक्रियाहरूको श्रृंखला मार्फत उत्पादन गरिन्छ। सामान्यतया, प्रतिस्थापनको डिग्री १.६ ~ २.० हुन्छ, र प्रतिस्थापनको फरक डिग्रीहरूसँग घुलनशीलता पनि फरक हुन्छ। यो गैर-आयनिक सेल्युलोज ईथरसँग सम्बन्धित छ।
(१) मिथाइलसेलुलोज चिसो पानीमा घुलनशील हुन्छ, र तातो पानीमा घुलनशील हुन गाह्रो हुन्छ। यसको जलीय घोल pH=३~१२ को दायरामा धेरै स्थिर हुन्छ। यसमा स्टार्च, ग्वार गम, आदि र धेरै सर्फ्याक्टेन्टहरूसँग राम्रो अनुकूलता छ। जब तापक्रम जेलेसन तापक्रममा पुग्छ, जेलेसन हुन्छ।
(२) मिथाइल सेल्युलोजको पानी अवधारण यसको थप मात्रा, चिपचिपापन, कण सूक्ष्मता र विघटन दरमा निर्भर गर्दछ। सामान्यतया, यदि थप मात्रा ठूलो छ भने, सूक्ष्मता सानो छ, र चिपचिपापन ठूलो छ भने, पानी अवधारण दर उच्च हुन्छ। ती मध्ये, थपको मात्राले पानी अवधारण दरमा सबैभन्दा ठूलो प्रभाव पार्छ, र चिपचिपापनको स्तर पानी अवधारण दरको स्तरसँग प्रत्यक्ष समानुपातिक हुँदैन। विघटन दर मुख्यतया सेल्युलोज कणहरूको सतह परिमार्जनको डिग्री र कण सूक्ष्मतामा निर्भर गर्दछ। माथिका सेल्युलोज ईथरहरू मध्ये, मिथाइल सेल्युलोज र हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइल सेल्युलोजमा पानी अवधारण दर उच्च हुन्छ।
(३) तापक्रममा हुने परिवर्तनले मिथाइल सेल्युलोजको पानी अवधारण दरलाई गम्भीर रूपमा असर गर्नेछ। सामान्यतया, तापक्रम जति उच्च हुन्छ, पानी अवधारण त्यति नै खराब हुन्छ। यदि मोर्टारको तापक्रम ४० डिग्री सेल्सियसभन्दा बढी भयो भने, मिथाइल सेल्युलोजको पानी अवधारण उल्लेखनीय रूपमा कम हुनेछ, जसले मोर्टारको निर्माणलाई गम्भीर रूपमा असर गर्नेछ।
(४) मिथाइल सेल्युलोजले मोर्टारको निर्माण र आसंजनमा महत्त्वपूर्ण प्रभाव पार्छ। यहाँ "आसंजन" ले कामदारको एप्लिकेटर उपकरण र भित्ता सब्सट्रेट बीच महसुस हुने टाँसिने बललाई जनाउँछ, अर्थात्, मोर्टारको कतरनी प्रतिरोध। टाँसिने क्षमता उच्च छ, मोर्टारको कतरनी प्रतिरोध ठूलो छ, र प्रयोगको प्रक्रियामा कामदारहरूलाई आवश्यक पर्ने बल पनि ठूलो छ, र मोर्टारको निर्माण कार्यसम्पादन कमजोर छ। सेल्युलोज ईथर उत्पादनहरूमा मिथाइल सेल्युलोज आसंजन मध्यम स्तरमा हुन्छ।
2. हाइड्रोक्सिप्रोपाइलमिथाइलसेलुलोज (HPMC)
हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज एक सेल्युलोज प्रजाति हो जसको उत्पादन र खपत हालैका वर्षहरूमा द्रुत गतिमा बढिरहेको छ। यो एक गैर-आयनिक सेल्युलोज मिश्रित ईथर हो जुन क्षारीकरण पछि परिष्कृत कपासबाट बनाइन्छ, प्रोपाइलिन अक्साइड र मिथाइल क्लोराइडलाई इथरिफिकेशन एजेन्टको रूपमा प्रयोग गरेर, प्रतिक्रियाहरूको श्रृंखला मार्फत। प्रतिस्थापनको डिग्री सामान्यतया १.२ ~ २.० हुन्छ। मेथोक्सिल सामग्री र हाइड्रोक्सिप्रोपाइल सामग्रीको फरक अनुपातको कारणले यसको गुणहरू फरक हुन्छन्।
(१) हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज चिसो पानीमा सजिलै घुलनशील हुन्छ, र यसलाई तातो पानीमा घुलनशील हुन कठिनाइहरू सामना गर्नुपर्नेछ। तर तातो पानीमा यसको जेलेसन तापक्रम मिथाइल सेलुलोजको तुलनामा उल्लेखनीय रूपमा बढी हुन्छ। मिथाइल सेलुलोजको तुलनामा चिसो पानीमा घुलनशीलता पनि धेरै सुधारिएको छ।
(२) हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोजको चिपचिपापन यसको आणविक भारसँग सम्बन्धित छ, र आणविक भार जति ठूलो हुन्छ, चिपचिपापन त्यति नै बढी हुन्छ। तापक्रमले यसको चिपचिपापनलाई पनि असर गर्छ, तापक्रम बढ्दै जाँदा, चिपचिपापन घट्छ। यद्यपि, यसको उच्च चिपचिपापनले मिथाइल सेलुलोज भन्दा कम तापक्रम प्रभाव पार्छ। कोठाको तापक्रममा भण्डारण गर्दा यसको घोल स्थिर हुन्छ।
(३) हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोजको पानी अवधारण यसको थप मात्रा, चिपचिपापन, आदिमा निर्भर गर्दछ, र उही थप मात्रा अन्तर्गत यसको पानी अवधारण दर मिथाइल सेलुलोज भन्दा बढी छ।
(४) हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज एसिड र क्षारको लागि स्थिर हुन्छ, र यसको जलीय घोल pH=२~१२ को दायरामा धेरै स्थिर हुन्छ। कास्टिक सोडा र कागतीको पानीले यसको कार्यसम्पादनमा थोरै प्रभाव पार्छ, तर क्षारले यसको विघटनलाई गति दिन सक्छ र यसको चिपचिपापन बढाउन सक्छ। हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज सामान्य लवणको लागि स्थिर हुन्छ, तर जब नुनको घोलको सांद्रता उच्च हुन्छ, हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज घोलको चिपचिपापन बढ्छ।
(५) हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोजलाई पानीमा घुलनशील पोलिमर यौगिकहरूसँग मिसाएर एकसमान र उच्च चिपचिपापनको घोल बनाउन सकिन्छ। जस्तै पोलिभिनिल अल्कोहल, स्टार्च ईथर, तरकारी गम, आदि।
(६) हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोजमा मिथाइलसेलुलोज भन्दा राम्रो इन्जाइम प्रतिरोध हुन्छ, र यसको घोल मिथाइलसेलुलोज भन्दा इन्जाइमहरूद्वारा घट्ने सम्भावना कम हुन्छ। हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोजको मोर्टार निर्माणमा आसंजन मिथाइलसेलुलोज भन्दा बढी हुन्छ।
३. हाइड्रोक्सिथाइल सेलुलोज (HEC)
यो क्षारले उपचार गरिएको परिष्कृत कपासबाट बनेको हुन्छ, र एसीटोनको उपस्थितिमा इथरिफिकेशन एजेन्टको रूपमा इथिलीन अक्साइडसँग प्रतिक्रिया गरिन्छ। प्रतिस्थापनको डिग्री सामान्यतया १.५ ~ २.० हुन्छ। यसमा बलियो हाइड्रोफिलिसिटी छ र ओसिलोपन अवशोषित गर्न सजिलो छ।
(१) हाइड्रोक्सिथाइल सेल्युलोज चिसो पानीमा घुलनशील हुन्छ, तर तातो पानीमा घुल्न गाह्रो हुन्छ। यसको घोल जेलिङ बिना उच्च तापक्रममा स्थिर हुन्छ। यसलाई मोर्टारमा उच्च तापक्रममा लामो समयसम्म प्रयोग गर्न सकिन्छ, तर यसको पानी अवधारण मिथाइल सेल्युलोजको भन्दा कम हुन्छ।
(२) हाइड्रोक्सिथाइल सेलुलोज सामान्य एसिड र क्षारमा स्थिर हुन्छ। क्षारले यसको विघटनलाई गति दिन सक्छ र यसको चिपचिपापनलाई थोरै बढाउन सक्छ। पानीमा यसको फैलावट मिथाइल सेलुलोज र हाइड्रोक्सिप्रोपाइल मिथाइल सेलुलोजको भन्दा अलि कम हुन्छ।
(३) हाइड्रोक्सिथाइल सेलुलोजमा मोर्टारको लागि राम्रो एन्टी-स्याग प्रदर्शन हुन्छ, तर सिमेन्टको लागि यसको रिटार्डिङ समय लामो हुन्छ।
(४) केही घरेलु उद्यमहरूले उत्पादन गर्ने हाइड्रोक्साइथाइल सेल्युलोजको प्रदर्शन उच्च पानी सामग्री र उच्च खरानी सामग्रीको कारणले गर्दा मिथाइल सेल्युलोजको तुलनामा स्पष्ट रूपमा कम छ।
४. कार्बोक्सिमिथाइल सेलुलोज (CMC)
आयोनिक सेल्युलोज ईथर प्राकृतिक फाइबर (कपास, आदि) बाट बनाइन्छ जसलाई क्षारले उपचार गरिन्छ र प्रतिक्रिया उपचारको श्रृंखला मार्फत ईथरिफिकेशन एजेन्टको रूपमा प्रयोग गरिन्छ। प्रतिस्थापनको डिग्री सामान्यतया ०.४ ~ १.४ हुन्छ, र यसको प्रदर्शन प्रतिस्थापनको डिग्रीले धेरै प्रभावित हुन्छ।
(१) कार्बोक्साइमिथाइल सेलुलोज बढी हाइग्रोस्कोपिक हुन्छ, र सामान्य अवस्थामा भण्डारण गर्दा यसमा बढी पानी हुन्छ।
(२) कार्बोक्साइमिथाइल सेलुलोज जलीय घोलले जेल उत्पादन गर्दैन, र तापक्रम बढ्दै जाँदा चिपचिपापन घट्नेछ। जब तापक्रम ५० डिग्री सेल्सियसभन्दा बढी हुन्छ, चिपचिपापन अपरिवर्तनीय हुन्छ।
(३) यसको स्थिरता pH ले धेरै प्रभावित हुन्छ। सामान्यतया, यसलाई जिप्सम-आधारित मोर्टारमा प्रयोग गर्न सकिन्छ, तर सिमेन्ट-आधारित मोर्टारमा होइन। अत्यधिक क्षारीय हुँदा, यसले चिपचिपापन गुमाउँछ।
(४) यसको पानी अवधारण मिथाइल सेल्युलोजको तुलनामा धेरै कम छ। यसले जिप्सम-आधारित मोर्टारमा रिटार्डिंग प्रभाव पार्छ र यसको शक्ति घटाउँछ। यद्यपि, कार्बोक्सिमिथाइल सेल्युलोजको मूल्य मिथाइल सेल्युलोजको तुलनामा उल्लेखनीय रूपमा कम छ।
पोस्ट समय: जनवरी-१०-२०२३