כיידראָקסיפּראָפּיל מעטהיללזעללאָסע (הפּמק) איז אַ אָפט געניצט וואַסער-סאַליאַבאַל פּאָלימער, וויידלי געניצט אין פאַרמאַסוטיקאַלז, קאָסמעטיקס, עסנוואַרג און ינדאַסטריאַל פעלדער, ספּעציעל אין דער צוגרייטונג פון דזשעלז. זיין גשמיות פּראָפּערטיעס און דיסאַלושאַן נאַטור האָבן אַ באַטייטיק פּראַל אויף די יפעקטיוונאַס אין פאַרשידענע אַפּלאַקיישאַנז. די גאָלדונג טעמפּעראַטור פון הפּמק געל איז איינער פון זייַן שליסל גשמיות פּראָפּערטיעס, וואָס אַפעקטאַד די פאָרשטעלונג אין פאַרשידן פּרעפּעריישאַנז, אַזאַ ווי קאַנטראָולד מעלדונג, פילטער פאָרמירונג, פעסטקייַט, עטק.
1. סטרוקטור און פּראָפּערטיעס פון HPMC
הפּמק איז אַ וואַסער-סאַליאַבאַל פּאַלימער באקומען דורך ינטראָודוסינג צוויי סאַבסטאַטייאַנץ, כיידראָקסיפּראָפּיל און מעטאַל, אין די סעליאַלאָוס מאָלעקולאַר סקעלעט. זייַן מאָלעקולאַר סטרוקטור כּולל צוויי טייפּס פון סאַבסטיטשואַנץ: הידראָקסיפּראָפּיל (-ch2Chohhch3) און מעטהיל (-CH3). סיבות אַזאַ ווי פאַרשידענע כיידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט, גראַד פון מעטהילאַטיאָן, און די גראַד פון פּאַלימעריזאַטיאָן וועט האָבן אַ וויכטיק פּראַל אויף די סאָלוביליטי, געלינג נאַטור און מאַקאַניקאַל פּראָפּערטיעס פון הפּמק.
אין ייקוויאַס סאַלושאַנז, אַירסאַנסעל® Hpmc פאָרמס סטאַביל קאַלוידאַל סאַלושאַנז דורך פאָרמינג הידראָגען קייטן מיט וואַסער מאַלאַקיולז און ינטעראַקטינג מיט זייַן סעליאַלאָוס-באזירט סקעלעט. ווען די פונדרויסנדיק סוויווע (אַזאַ ווי טעמפּעראַטור, ייאַניק שטאַרקייט, אאז"ו ו) ענדערונגען, די ינטעראַקשאַן צווישן הפּמק מאָלעקולעס וועט טוישן, ריזאַלטינג אין די געלאַטיאָן.
2. דעפֿיניציע און ינפלואַנסינג סיבות פון די געלאַטיאָן טעמפּעראַטור
גאָלאַטיאָן טעמפּעראַטור (גאָלאַטיאָן טעמפּעראַטור, ט_געל) רעפערס צו די טעמפּעראַטור אין וואָס די הפּמק לייזונג הייבט צו די פליסיק צו האַרט ווען די לייזונג טעמפּעראַטור ריסעס צו אַ זיכער מדרגה. אין דעם טעמפּעראַטור, די באַוועגונג פון HPMC מאָלעקולאַר קייטן וועט זיין לימיטעד, פאָרמינג אַ דריי-דימענשאַנאַל נעץ סטרוקטור, ריזאַלטינג אין אַ געל-ווי מאַטעריע.
די גאָלדונג טעמפּעראַטור פון HPMC איז אַפעקטאַד דורך פילע סיבות, איינער פון די מערסט וויכטיק סיבות איז די הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט. אין דערצו צו כיידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט, אנדערע סיבות וואָס ווירקן געל טעמפּעראַטור אַרייַננעמען מאָלעקולאַר וואָג, לייזונג קאַנסאַנטריישאַן, PU ווערט, סאַלוואַנט טיפּ, ייאַניק שטאַרקייט, עטיק שטאַרקייט, עטק.
3. ווירקונג פון הידראָקסיפּראָפּילינג אינהאַלט אויף HPMC געל טעמפּעראַטור
3.1 די פאַרגרעסערן אין הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט פירט צו אַ פאַרגרעסערן אין געל טעמפּעראַטור
די גאַלאַטיאָן טעמפּעראַטור פון הפּמק איז ענג שייַכות צו די גראַד פון הידראָקסיפּראָפּיל סאַבסטיטושאַן אין זיין מאַלאַקיול. ווי די הידראָקסיפּראָפיי אָפפערס ינקריסאַז, די נומער פון כיידראָפיליק סאַבסטאַטווייאַנץ אויף די הפּמק מאָלעקולאַר קייט ינקריסאַז, ריזאַלטינג אין ענכאַנסט ינטעראַקשאַן צווישן די מאַלאַקיול און וואַסער. דעם ינטעראַקשאַן גרונט די מאָלעקולאַר קייטן צו אויסשטרעקן ווייַטער, דערמיט רידוסינג די שטאַרקייט פון די ינטעראַקשאַן צווישן די מאָלעקולאַר קייטן. ינקריסינג די כיידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט פון די גראַד פון כיידריישאַן און פּראַמאָוץ די קעגנצייַטיק אָרדענונג פון מאָלעקולאַר קייטן, אַזוי אַז אַ נעץ סטרוקטור קענען זיין געשאפן אין אַ זיכער קאַנסאַנטריישאַן קייט. דעריבער, דער גאָלאַטיאָן טעמפּעראַטור יוזשאַוואַלי ינקריסיז מיט די כיידראָקסיפּראָפּיל ריסעס מיט ינקריסינג אינהאַלט.
הפּמק מיט העכער הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט (אַזאַ ווי HPMC K15M) טענדז צו ויסשטעלונג אַ העכער גאָלד געלאַטיאָן טעמפּעראַטור אין דער זעלביקער קאַנסאַנטריישאַן פון הידריסעלעדס (אַזאַ ווי Anadryprationse (אַזאַ ווי HADROXYPROCOPILES (אַזאַ ווי HPMCOCOPILE). דאָס איז ווייַל העכער הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט מאכט עס מער שווער פֿאַר מאַלאַקיולז צו ינטעראַקט און פאָרעם נעטוואָרקס אין נידעריקער טעמפּעראַטורעס, ריקוויירינג העכער טעמפּעראַטורעס צו באַקומען דעם כיידריישאַן און העכערן ינטערבאָלעקולאַר ינטעראַקשאַנז צו פאָרעם אַ דריי-דימענשאַנאַל נעץ סטרוקטור. .
3.2 שייכות צווישן הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט און לייזונג קאַנסאַנטריישאַן
קאַנסאַנטריישאַן איז אויך אַ וויכטיק פאַקטאָר וואָס ווירקן די גאַלאַטיאָן טעמפּעראַטור פון HPMC. אין הויך-קאַנסאַנטריישאַן הפּמק סאַלושאַנז, די ינטערמאָלעקולאַר ינטעראַקשאַנז זענען שטארקער, אַזוי די גאָלדונג טעמפּעראַטור קען זיין העכער אפילו אויב די הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט איז נידעריקער. אין נידעריק קאַנסאַנטריישאַנז, די ינטעראַקשאַן צווישן הפּמק מאָלעקולעס איז שוואַך, און די לייזונג איז מער מסתּמא צו געל אין נידעריקער טעמפּעראַטורעס.
אויב די כיידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט ינקריסאַז, כאָטש די כיידראָדיליציאַטי ינקריסאַז, אַ העכער טעמפּעראַטור איז נאָך פארלאנגט צו פאָרעם אַ געל. ספּעציעל אונטער נידעריק קאַנסאַנטריישאַן טנאָים, די גאָלדאַטיאָן טעמפּעראַטור ינקריסיז מער באטייטיק. דאָס איז ווייַל HPMC מיט הויך כיידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט איז מער שווער צו ינדוסיז צווישן מאָלעקולאַר קייטן דורך טעמפּעראַטור ענדערונגען, און די גאָלדעם ענדערונגען זענען ריקווייערז נאָך די כעלאַטיאָן.
3.3 ווירקונג פון הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט אויף דזשעלאַטיאָן פּראָצעס
אין אַ זיכער קייט פון הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט, די גאָלדאַטיאָן פּראָצעס איז דאַמאַנייטאַד דורך די ינטעראַקשאַן צווישן כיידריישאַן און מאָלעקולאַר קייטן. ווען די הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט אין די הפּמק וואַלאַקיול איז נידעריק, די כיידריישאַן איז שוואַך, די ינטעראַקשאַן צווישן מאָלעקולעס איז שטאַרק, און אַ נידעריקער טעמפּעראַטור קענען העכערן די פאָרמירונג פון געל. ווען די הידראָוקסיפּראָפּיל אינהאַלט איז העכער, די כיידריישאַן איז באטייטיק ענכאַנסט, די ינטעראַקשאַן צווישן מאָלעקולאַר קייטן ווערט שוואַך און די זאבונג טעמפּעראַטור ינקריסיז.
העכער הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט קען אויך פירן צו אַ פאַרגרעסערן אין די וויסקאָסיטי פון די הפּמק לייזונג, אַ ענדערונג אַז מאל ינקריסיז די אָנסעט טעמפּעראַטור פון גאָלדאַטיאָן.
הידראָקסיפּראָפּיל אינהאַלט האט אַ באַטייטיק פּראַל אויף די געלאַטיאָן טעמפּעראַטור פוןHpmc. ווי די כיידראָקסיפּראָפיי אָפפערס ינקריסאַז, די כיידראָדיליסיטי פון הפּמק ינקריסאַז און די ינטעראַקשאַן צווישן מאָלעקולאַר טשאַינס וויקאַנז, אַזוי די גאָלאַטיאָן טעמפּעראַטור איז יוזשאַוואַלי ינקריסיז. דעם דערשיינונג קענען זיין דערקלערט דורך די ינטעראַקשאַן מעקאַניזאַם צווישן כיידריישאַן און מאָלעקולאַר קייטן. אַדזשאַסטינג די כיידראָקסיפּראָפּיקאַל אינהאַלט פון HPMC, גענוי קאָנטראָל פון די גאַלאַטיאָן טעמפּעראַטור קענען זיין אַטשיווד, דערמיט אָפּטימיזינג די פאָרשטעלונג פון הפּמק אין פאַרמאַסוטיקאַל, עסנוואַרג און אנדערע ינדאַסטריאַל אַפּלאַקיישאַנז.
פּאָסטן צייט: Jan-04-2025